[实用新型]全口径抛光中抛光盘表面形状的修正装置

说明书

技术领域

本实用新型属于光学加工领域，尤其涉及一种全口径抛光中抛光盘表面形状的修正装置。

背景技术

大口径平面光学元件的抛光传统上主要采用环抛工艺，环抛加工中沥青盘具有的良好流动性使其能够与工件表面较好地贴合，然而，加工过程中工件对沥青盘的磨损和挤压作用造成盘面形状发生变化和平面度降低，从而不利于工件面形的控制。目前，环抛中主要采用大尺寸的校正板来改善沥青盘的平面度以及得到理想的盘面形状。校正板一般采用具有较高硬度和热稳定性的微晶、陶瓷等材料，加工时放在沥青盘的环带上，对盘面形状进行校正。一般来说，在沥青盘的半径方向上外推校正盘会使盘面形状变凸，元件面形往凹面变化，而内推校正盘则使盘面形状变凹，元件面形往凸面变化。基于这一原理即可根据元件的面形误差特征调整工艺参数进行修形。这种采用大尺寸校正板的盘面形状修正方法，主要依靠工人长期的加工实践调整校正板在盘面半径方向的位置来修正盘面的形状误差，工艺控制的确定性较差，盘面形状的修正精度难以得到提高。此外，大尺寸校正板难以修正盘面沿圆周方向的形状误差。

大口径平面光学元件的另一抛光方法是基于聚氨酯盘的平面快速抛光技术。聚氨酯盘具有较高的硬度和良好的耐磨性，抛光时可以承受较高的速度和压力，并且盘面形状能够较长时间保持稳定。然而，聚氨酯盘使用前不同区域厚度不均造成盘面形状较差，以及长时间高速抛光造成盘面的磨损会使盘面形状恶化，从而需要对盘面形状进行修正。目前，聚氨酯抛光主要采用大尺寸的表面固结有金刚石颗粒的金属基修整盘对盘面进行修整，改善聚氨酯垫的抛光特性和修正盘面的形状。长期的加工实践表明，大尺寸金刚石修整盘修整后的聚氨酯盘呈凹形表面，难以获得平整的表面。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种全口径抛光中抛光盘表面形状的修正装置。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是：全口径抛光中抛光盘表面形状的修正装置，包括主轴连接架，所述主轴连接架下端设置有偏心调节块，在所述偏心调节块下端设置有球头顶针，在所述球头顶针下端设置有小工具，在所述小工具的上表面设置有球槽，所述球槽与所述球头顶针配合连接。

进一步的，所述偏心调节块的旋转轴与主轴连接架的旋转轴不重合。

进一步的，所述偏心调节块通过螺钉固定在所述主轴连接架上。

进一步的，所述偏心调节块采用T型偏心调节块。

进一步的，所述偏心调节块通过两个螺钉与所述主轴连接架连接。

进一步的，所述两个螺钉的螺孔中心连线与所述主轴连接架的旋转轴相交。

进一步的，所述两个螺钉的螺孔中心连线的中点位于所述主轴连接架的旋转轴上。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的修正装置结构简单，可方便连接于常用的抛光机床的工件轴上，通过工件轴的旋转带动修正装置的小工具的运动，有利于抛光盘表面形状误差的修正。

附图说明

图1是本实用新型的装置的结构示意图。

图2是图1的主视图。

具体实施方式

如图1和图2所示，本实用新型的修正装置包括主轴连接架1，主轴连接架1下端设置有T型偏心调节块2，在偏心调节块2下端设置有球头顶针4，在球头顶针4下端设置小工具5，在小工具5的上表面设置有球槽6，所述球槽6与球头顶针4配合连接。

上述偏心调节块2可通过螺钉3固定在主轴连接架1上，并且偏心调节块2的旋转轴与主轴连接架1的旋转轴不重合，偏心调节块2用于调节小工具5的旋转偏心距；工作时，可通过螺钉将主轴连接架1固定在抛光机床的工件轴上，工件轴带动主轴连接架1旋转；上述T型偏心调节块2可通过两个螺钉与主轴连接架1连接，两个螺钉的螺孔中心连线与主轴连接架1的旋转轴相交，且两个螺钉的螺孔中心连线的中点最好位于主轴连接架1的旋转轴上。

修正时，将小工具5放置在抛光盘上，再将偏心调节块2下端的球头顶针4放置在小工具5的球槽6内，主轴连接架1旋转带动球头顶针4旋转，从而带动小工具5绕主轴连接架1的旋转轴做旋转运动，并且小工具5在抛光盘的摩擦作用下还可绕自身轴线(即球头顶针4的轴线)作旋转运动。

本实用新型可根据抛光盘的类型选择不同的小工具5，针对平面快速抛光中常用的聚氨酯盘，可采用表面固结有金刚石颗粒的金属基圆盘小工具5，而对于传统环抛中常用的沥青盘，则采用微晶、陶瓷板等材质的圆盘小工具5。

本实用新型的抛光盘表面形状修正方法为：