[实用新型]一种混合三子结化合物光伏电池有效

专利信息
申请号: 201420519920.X 申请日: 2014-09-11
公开(公告)号: CN204243069U 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 司红康;马梅;谢发忠 申请(专利权)人: 六安市大宇高分子材料有限公司
主分类号: H01L31/078 分类号: H01L31/078;H01L31/0304
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 237000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 混合 三子结 化合物 电池
【权利要求书】:

1.一种混合三子结化合物光伏电池,该电池表面为连续的二阶凸起结构,所述连续的二阶凸起结构包括GaInP/GaAs/Ge三结光伏电池以及InAlAsP/InGaAs/Ge三结光伏电池,并且所述GaInP/GaAs/Ge三结光伏电池与所述InAlAsP/InGaAs/Ge三结光伏电池交替排列;所述二阶凸起结构包括第一阶凸起和第二阶凸起,其中第二阶凸起从第一阶凸起的上表面向上凸起。

2.如权利要求1所述的光伏电池,所述GaInP/GaAs/Ge三结光伏电池包括Ge衬底;Ge子电池,位于Ge衬底上;InGaAs子电池,位于Ge子电池上;InAlAsP子电池,位于InGaAs子电池上;在所述Ge衬底与Ge子电池之间包括n++Ge接触层以及n++Ge接触层之上的背场层;在InAlAsP子电池上为窗口层,窗口层上为p++接触层;Ge子电池与InGaAs子电池,InGaAs子电池与InAlAsP子电池之间具有晶格匹配的n++/p++遂穿二极管。

3.如权利要求2所述的光伏电池,所述Ge子电池在远离衬底的方向上依次包括n Ge基区,p+Ge发射区,并具有0.66ev左右的带隙;所述InGaAs子电池在远离衬底方向上依次包括n InGaAs基区,p+InGaAs发射区,并具有1.40ev左右的带隙;所述InAlAsP子电池在远离衬底方向上依次包括n InAlAsP基区,p+InAlAsP发射区,并具有1.90ev左右的带隙。

4.如权利要求1-3任一项所述的光伏电池,从第二阶凸起的顶面到Ge衬底的底面厚度为300~400μm,第一阶凸起的顶部到第一阶凸起底面的厚度为50~80μm;并且第二阶凸起的顶部到第一阶凸起的顶部的厚度至少大于第一阶凸起的顶部到第一阶凸起底面的厚度的两倍;每两个二阶凸起结构之间的间隔小于第一阶凸起的顶部到第一阶凸起底面的厚度。

5.如权利要求3所述的光伏电池,所述n Ge基区的厚度大于n InGaAs基区的厚度,n InGaAs基区的厚度大于n InAlAsP基区的厚度,n Ge基区的厚度为约2.5微米、n InGaAs基区的厚度为2.2微米、n InAlAsP基区的厚度为1.8-2.0微米;p+Ge发射区、p+InGaAs发射区、p+InAlAsP发射区的厚度均为80-100纳米。

6.如权利要求2所述的光伏电池,所述晶格匹配的n++/p++隧穿二极管为n++InGaP/p++InGaAsP异质结隧穿二极管;其总厚度为30-45纳米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于六安市大宇高分子材料有限公司,未经六安市大宇高分子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420519920.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top