[实用新型]一种用于沙雕成型的喷胶系统有效

专利信息
申请号: 201420522374.5 申请日: 2014-09-11
公开(公告)号: CN204055119U 公开(公告)日: 2014-12-31
发明(设计)人: 程小伟;刘民;熊卫军 申请(专利权)人: 网云(武汉)三维打印科技有限公司
主分类号: B44C3/06 分类号: B44C3/06;B05B7/04;B05B15/02
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 张瑾
地址: 430074 湖北省武汉市东湖新技术开发*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 沙雕 成型 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型属于增财制造技术领域,尤其涉及一种用于沙雕成型的机喷胶系统。

背景技术

现有沙雕成型设备一般采用同时喷沙喷胶方案,胶水一般设在胶箱中,然后通过胶管将胶水从胶箱中抽入喷头,喷头同时喷出沙粒和胶水,喷头按照预设轨迹运动,由于现有喷胶系统采用的胶水具有很强粘性,因此胶水容易造成胶管或喷头堵塞,而且喷头无法清洗,使用寿命较短。

实用新型内容

鉴于上述问题,本实用新型的目的在于提供一种用于沙雕成型的喷胶系统,旨在解决现有喷胶系统胶管、喷头易堵塞,使用寿命短的技术问题。

本实用新型是这样实现的,所述用于沙雕成型的喷胶系统包括第一胶箱、第二胶箱、水箱、第一胶仓、第二胶仓和混合胶腔,所述第一胶箱上接有第一水泵,第二胶箱上接有第二水泵,所述水箱上接有第三水泵,所述第一水泵出口通过胶管连接到所述第一胶仓,所述第二水泵出口通过胶管连接到所述第二胶仓,所述第一胶仓、第二胶仓底部均设有调压阀,两个调压阀出口以及第三水泵出口均通过胶管连接至所述混合胶腔。

进一步的,所述混合胶腔包括腔体,所述腔体内设有搅拌叶片,所述腔体上还固定有驱动所述搅拌叶片的搅拌电机,所述腔体底部接有二通电磁阀,所述二通电磁阀出口连接有胶喷嘴。

本实用新型的有益效果是:本实用新型中,通过水泵抽取两种胶水,并通过调压阀缓冲胶水冲击力,将两种胶水抽取到混合胶腔混合均匀后再喷出,由于在混合之前,两种胶水不具粘性,而且混合均匀后胶水即可喷出使用,这样在胶管以及混合胶腔不会发生堵塞现象;另外,当使用一段时间后,通过第三水泵将水抽取到混合胶腔中进行胶腔清洗,进一步避免了堵塞现象,增加了设备的使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的用于沙雕成型的喷胶系统的结构图;

图2是本实用新型实施例提供的混合胶腔的结构图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

为了说明本实用新型所述的技术方案,下面通过具体实施例来进行说明。

图1示出了本实用新型实施例提供的用于沙雕成型的喷胶系统的结构,为了便于说明仅示出了与本实用新型实施例相关的部分。

本实施例提供的用于沙雕成型的喷胶系统,包括第一胶箱1、第二胶箱2、水箱3、第一胶仓4、第二胶仓5和混合胶腔6,所述第一胶箱1上接有第一水泵11,第二胶箱2上接有第二水泵21,所述水箱3上接有第三水泵31,所述第一水泵21出口通过胶管连接到所述第一胶仓4,所述第二水泵21通过胶管连接到所述第二胶仓5,所述第一胶仓4、第二胶仓5底部均设有调压阀,图示中分别为41、51,两个调压阀出口以及第三水泵出口均通过胶管连接至所述混合胶腔6。

第一胶箱中注入有A胶水,第二胶箱中注入有B胶水,两种胶水单独放置不具粘性。工作时,第一水泵和第二水泵分别将A胶水B胶水抽入对应的胶仓,胶仓底部设至有调压阀,经所述调压阀减压后,两种胶水进入混合胶腔混合均匀,然后再喷出。由于两种胶水分开放置时不具粘性,因此胶管中胶水流动性大,不易堵塞。另外两种胶水在混合胶腔混合均匀后即可喷出使用,不会在混合胶腔内发生堵塞。当使用一段时间后,启动第三水泵,将水抽入混合胶腔中进行清洗,保证混合胶腔不堵塞。

作为混合胶腔的一种具体优选结构,所述混合胶腔6包括腔体61,所述腔体内设有搅拌叶片62,所述腔体上还固定有驱动所述搅拌叶片的搅拌电机63,所述腔体底部接有二通电磁阀64,所述二通电磁阀出口连接有胶喷嘴65。

将两种胶水注入腔体后,搅拌电机驱动搅拌叶片转动,将两种胶水混合均匀,使其具备工艺要求粘性。使用胶水时,接通所述二通电磁阀,混合胶水通过胶喷嘴喷出,喷出的混合胶水为细柱状,可进行铺沙打印,打印完一层的图形后二通电磁阀关闭,胶喷嘴不出胶。

当需要清洗时,第三水泵将水抽入腔体中,所述搅拌叶片转动进行清洗,将二通电磁阀接通,清洗完成后的污水由胶喷嘴排出,反复几次后待胶喷嘴排出的水色呈透明,则清洗完成。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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