[实用新型]硒鼓的齿轮边盖和采用该齿轮边盖的硒鼓有效

专利信息
申请号: 201420536047.5 申请日: 2014-09-17
公开(公告)号: CN204178125U 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 顾耀华 申请(专利权)人: 中山市迪迈打印科技有限公司
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 代理人: 邹常友
地址: 528400 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 硒鼓 齿轮 采用
【说明书】:

【技术领域】

本实用新型涉及一种硒鼓的齿轮边盖;

本实用新型还涉及一种采用该齿轮边盖的硒鼓。

【背景技术】

目前市场上的接触式显影硒鼓用于激光打印机,激光打印的工作过程可分为充电、曝光,转印、定影、清洁、消电7个步骤,其中五个步骤是围绕硒鼓进行的。首先,由充电辊在感光鼓表层充上一层负电荷。感光鼓被充电后,当激光束照到感光鼓表层时,被照射区域上的电荷消失,未被照射区域上的电荷保持不变,这样,曝光区域与未曝光区域的电位差既形成一层静电潜像。另一方面,从粉仓出来的碳粉被充电后的送粉辊感生出负电性。显影辊多为金属芯胶辊,有很大的电阻,给其施以电压时,送粉辊上的带电碳粉就会转移到相对电位高的显影辊上来。出粉刀与显影辊保持极小的间隙,它也被施以一个交变的电压同,可以在不断的震荡中使碳粉激活并将其刮成圴匀的很薄的一层。,接下来,当带负电荷的碳粉随着感光鼓转到打印纸附近时,在充有正电的转印辊的作用下,带负电荷的碳粉被吸引到纸的表面上了。在定影部件中,利用加压热熔的方法,使熔化的碳粉浸入到打印纸中,形成固定图像。接下来,清洁刮刀把感光鼓表面没有完全转移的“残余碳粉”刮进废粉瓶,使下一个打印周期有一个清洁的感光鼓。最后,浸入下一打印周期,充电辊对感光鼓表层进行充电,同时也相当于消除了上一打印周期感光鼓表层的残余电荷。这种要求感光鼓与显影辊直接接触的显影辊方式对各部件的精度要求比较高。而现有的齿轮定结构如图1所示的,包括有粉仓1、端盖2、铁架3、显影辊定位圈4、送粉辊定位圈5、转动齿轮一6、转动齿轮二7、显影辊8和送粉辊9,它们组装操作比较困难,生产效率低,而且部件多,制作用材成本也高,精度也没法统一起来,给生产厂家和使用者均造成不便,这要求齿轮边盖与其他配件要做相应优化的改进。

通过开发和研究试验,我们研制了出一种硒鼓的齿轮边盖和采用该齿轮边盖的硒鼓。 

【实用新型内容】

本实用新型的目的所要解决的技术问题是要提供一种硒鼓的齿轮边盖和采用该齿轮边盖的硒鼓,它结构简单、生产加工难度小、制造成本低、生产效率高,工艺和用材成本更低的特点,各辊的配合精度大大地提高了,装配操作快捷、简单。因此它是一种经济性和技术性均优越的产品。

本实用新型要解决其技术问题所采用的技术方案为:一种硒鼓的齿轮边盖,所述齿轮边盖采用塑料材料注成一体化结构,所述齿轮边盖的内侧间隔设置有第一凸台、第二凸台、第三凸台和第四凸台;所述第一凸台、第二凸台、第三凸台和第四凸台均具有孔腔。 

本实用新型还提供一种硒鼓,它包括送粉辊齿、显影辊齿、第一传动齿、第二传动齿、粉仓和上述方案中的齿轮边盖,所述第一传动齿具有突起的第一定位柱第二传动齿具有突起的第二定位柱;所述显影辊齿设有圆柱突出部;所述送粉辊齿设有半圆柱突出部。 

本实用新型同背景技术相比所产生的有益效果: 

本实用新型采用了上述的技术方案,取消原有的齿轮定结构中存在铁架、显影辊定位圈和送粉辊定位圈的结构,在齿轮边盖和齿轮上的制成配合的结构,使得简化了结构和减少部件的使用。它结构简单、生产加工难度小、制造成本低、生产效率高,工艺和用材成本更低的特点,各辊的配合精度大大地提高了,装配操作快捷、简单。因此它是一种经济性和技术性均优越的产品。

【附图说明】

图1为背景技术中的硒鼓结构展开示意图;

图2为本实用新实施例中硒鼓的齿轮边盖的结构示意图;

图3为本实用新型实施例中硒鼓的展开结构示意图;

图4为图3中A部放大图。

【具体实施方式】

下面结合附图,通过对本实用新型的具体实施方式作进一步的描述,使本实用新型的技术方案及其有益效果更加清楚、明确。

下面详细描述本发明的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。 

在本发明的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向” 、 “纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本发明的具体保护范围。 

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