[实用新型]离子源准直器及离子源

权利要求书

1.离子源准直器，其特征在于，包括准直器基体（1），所述准直器基体中开设有准直孔（2），所述准直孔周围设置有环形溅射台（3），所述环形溅射台（3）高度低于准直器基体上表面（5），所述环形溅射台（3）周围还设置有高度高于准直器基体上表面（5）的环形定位台阶（4），所述环形溅射台（3）与准直孔（2）轴线重合。

2.如权利要求1所述的离子源准直器，其特征在于，所述离子源准直器整体均为纯钽材料。

3.如权利要求1所述的离子源准直器，其特征在于，所述准直器基体、准直孔为圆形，准直孔轴线与准直器基体轴线距离为0至2毫米。

4.如权利要求3所述的离子源准直器，其特征在于，所述准直孔的直径为3至4毫米。

5.如权利要求1所述的离子源准直器，其特征在于，所述环形定位台阶高度高于准直器基体上表面1至3毫米。

6.离子源，其特征在于，包括圆柱形的阳极（9），位于阳极两端的如权利要求1至5任意一项所述的离子源准直器（6），所述离子源还包括阴极（7）和对阴极（8），所述阴极（7）和对阴极（8）的端部电极形状与所述离子源准直器（6）的环形定位台阶形状配合，且能覆盖离子源准直器的准直孔。