[实用新型]触控装置的基底有效
申请号: | 201420547036.7 | 申请日: | 2014-09-22 |
公开(公告)号: | CN204242133U | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 黄世杰;郑国铸;黄子奕;张至馨;黄俊铭 | 申请(专利权)人: | 胜华科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 基底 | ||
1.一种触控装置的基底,其特征在于,包括:
一第一基底,所述第一基底具有一侧面、一第一面以及一与所述第一面相反的第二面,其中所述侧面包括一第三面、一第四面以及一第五面,所述第三面与所述第一面相接,所述第五面与所述第二面相接,所述第四面设置在所述第三面与所述第五面之间,其中所述第三面与所述第五面其中至少一种的至少部分为弧面,且所述第三面、所述第四面与所述第五面其中至少一种具有齿状结构。
2.根据权利要求1所述的触控装置的基底,其特征在于,还包括一触控组件设置在所述第一基底上,其中所述触控组件设置在所述第一面与所述第二面的至少其中一面上。
3.根据权利要求1所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第一基底包括在侧面形成有交换离子强化层的玻璃基底。
4.根据权利要求1所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面与所述第一面的交界处与所述第四面在一水平方向上的距离或所述第二面与所述第五面的交界处与所述第四面在所述水平方向上的距离大于0.01毫米且小于0.2毫米。
5.根据权利要求1所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面与所述第一面的交界处与所述第四面在一水平方向上的距离或所述第二面与所述第五面的交界处与所述第四面在所述水平方向上的距离大于0.05毫米且小于0.1毫米。
6.一种触控装置的基底,其特征在于,包括:
一第一基底,所述第一基底具有一侧面、一第一面以及一与所述第一面相反的第二面,其中所述侧面包括一第三面、一第四面以及一第五面,所述第三面与所述第一面相接,所述第五面与所述第二面相接,所述第四面设置在所述第三面与所述第五面之间;以及
一保护层,设置在所述第一基底的所述侧面上,其中所述保护层至少部分覆盖所述侧面,所述保护层具有至少一抛光面,且所述抛光面在一水平方向上与所述第三面或所述第五面对应设置。
7.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,还包括一触控组件设置在所述第一基底上,其中所述触控组件设置在所述第一面与所述第二面的至少其中一面上。
8.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面与所述第四面的夹角小于45度,且所述第五面与所述第四面的夹角小于45度。
9.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述保护层的厚度小于30微米。
10.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第一基底包括在侧面形成有交换离子强化层的玻璃基底。
11.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面与所述第一面的交界处与所述第四面在一水平方向上的距离或所述第二面与所述第五面的交界处与所述第四面在所述水平方向上的距离大于0.01毫米且小于0.2毫米。
12.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面与所述第一面的交界处与所述第四面在一水平方向上的距离或所述第二面与所述第五面的交界处与所述第四面在所述水平方向上的距离大于0.05毫米且小于0.1毫米。
13.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面、所述第四面与所述第五面分别为一平面,且所述抛光面为一弧面。
14.根据权利要求6所述的触控装置的基底,其特征在于,所述第三面、所述第四面与所述第五面为连续的弧面,且所述抛光面为一弧面。
15.一种触控装置的基底,其特征在于,包括:
一第一基底,所述第一基底具有一侧面、一第一面以及一与所述第一面相反的第二面,其中所述侧面包括一第三面、一第四面以及一第五面,所述第三面与所述第一面相接,所述第五面与所述第二面相接,所述第四面设置在所述第三面与所述第五面之间;以及
一保护层,设置在所述第一基底的所述侧面上,其中所述保护层至少部分覆盖所述侧面,所述保护层具有至少一研磨面,所述研磨面包括一第六面、一第七面以及一第八面,所述第六面与所述第八面与所述第一基底相接,所述第七面设置在所述第六面与所述第八面之间,且所述第六面、所述第七面以及所述第八面分别为一平面或一弧面。
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