[实用新型]薄层板上加入表面增强试剂的装置有效
申请号: | 201420551570.5 | 申请日: | 2014-09-24 |
公开(公告)号: | CN204064916U | 公开(公告)日: | 2014-12-31 |
发明(设计)人: | 张建明 | 申请(专利权)人: | 上海科哲生化科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65 |
代理公司: | 上海明成云知识产权代理有限公司 31232 | 代理人: | 常明 |
地址: | 201108 上海市闵*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄层 加入 表面 增强 试剂 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及拉曼-薄层联用技术,特别涉及一种在薄层板上加入表面增强试剂的装置。
背景技术
在拉曼-薄层联用技术中,很多时候样品的拉曼信号较弱,需要在薄层板上加入表面增强试剂,用来增强信号。目前,在薄层板上加入表面增强试剂主要靠实验人员手工加入,因此很难保证它的均匀度、加入量的准确性以及加胶时间的一致性,导致后续实验的结果很难重现;尤其在表面增强试剂加入量很小的情况下,人工操作甚至不能得到拉曼谱图。
专利文献CN103499561A公布了一种表面增强拉曼光谱基底材料及其制备方法,利用高沸点溶剂作为原料,对金属纳米颗粒进行加热处理,得到一类超薄壳层包裹的核壳型金属纳米颗粒,该类纳米颗粒兼具稳定性好和拉曼增强活性高的优点,且能在强酸强碱体系中使用。
另一篇专利文献CN103512875A公布了一种化学性质稳定的表面增强拉曼光谱复合基底的制备方法,将采用CVD技术在铜箔上生长的单层石墨烯转移到通过聚苯乙烯微球模板法制备的银纳米阵列上,在50℃下保温30分钟后,单层石墨烯与贵金属纳米阵列牢固结合,形成复合表面增强拉曼光谱的基底。
鉴于上述专利文献并不适用于拉曼-薄层联用技术,而且目前市场上也没有出现商业化的在薄层板上加入表面增强试剂的装置,因此该领域的技术人员致力于研发一种能够在薄层板上加入表面增强试剂的装置。
发明内容
本实用新型的任务是提供一种在薄层板上加入表面增强试剂的装置,它能够在薄层板指定位置精确加入一定量的表面增强试剂,且加入速度可以设置,试剂均匀度和时间一致性也能够得到保障,实现了商业化,解决了目前人为操作引起误差的问题。
本实用新型的技术解决方案如下:
一种薄层板上加入表面增强试剂的装置,它包括L型框架、运动平台、移动臂以及加液装置;
所述运动平台设置在L型框架的水平面上并前后移动,运动平台上摆放薄层板;
所述移动臂安装在L型框架的垂直面上并左右移动;
所述加液装置可拆装地安装在移动臂上,加液装置的加液口对准薄层板以在薄层板指定位置精确加入表面增强试剂。
所述移动臂是垂直设置的。
所述移动臂是横向设置的。
所述移动臂是通过导轨运行的。
本实用新型的研发成功在于完成了可商业化的在薄层板上加入表面增强试剂装置的研制。本实用新型的主要优点是该装置可以在薄层板指定位置精确加入一定量的表面增强试剂,且加入速度可以设置,试剂均匀度和时间一致性也能够得到保障。这就避免了人为操作引起的误差,确保实验结果的重复性,节约了成本,在一定程度上避免了表面增强试剂的浪费。
附图说明
图1是本实用新型的一种在薄层板上加入表面增强试剂的装置的结构示意图。
附图标记:
1为L型框架,2为运动平台,3为移动臂,4为加液装置。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作详细说明。
参看图1,本实用新型提供一种薄层板上加入表面增强试剂的装置,它主要由L型框架1、运动平台2、移动臂3以及加液装置4组成。
运动平台2设置在L型框架1的水平面上,可前后移动。运动平台2上摆放薄层板。移动臂3安装在L型框架1的垂直面上,可左右移动。加液装置4安装在移动臂3上,加液装置4的加液口对准薄层板,可在薄层板指定位置精确加入表面增强试剂。
加液装置4为可拆卸式,当需要补充表面增强试剂时,可及时拆卸,待充满液剂后再安装到移动臂3上,使用方便。
本实用新型的移动臂3可以是垂直设置的,也可以是横向设置的,还可以是通过导轨运行的。
本实用新型的薄层板上加入表面增强试剂的装置的工作过程如下:
将所需加入的表面增强试剂装入加液装置4,将加液装置4固定在移动臂3上,通过计算机软件设置好加入剂量、加入速度、加入位置等参数,加液装置4即按照设定程序完成对薄层板添加表面增强试剂的过程。
综上所述,应用本实用新型的薄层板上加入表面增强试剂的装置,可在薄层板指定位置精确加入一定量的表面增强试剂,且加入速度可以设置,试剂均匀度和时间一致性也能够得到保障,使用方便。
当然,本技术领域内的一般技术人员应当认识到,上述实施例仅是用来说明本实用新型,而并非用作对本实用新型的限定,只要在本实用新型的实质精神范围内,对上述实施例的变化、变型等都将落在本实用新型权利要求的范围内。
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