[实用新型]掩膜版及液晶显示模组有效
| 申请号： | 201420551864.8 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN204143152U | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 黄秋蓉;洪孟锋 | 申请（专利权）人： | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210033 江苏省南京市仙林大道科*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜版 液晶显示 模组 | ||
【权利要求书】：
1.掩膜版，包括至少一遮光区域和非遮光区域，其特征在于：非遮光区域在靠近遮光区域设有若干等间距交替分布的遮光部件和透光狭缝。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述的遮光部件为纵向条状遮光图案。
3.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于：所述的遮光部件为倾斜条状遮光图案。
4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述的遮光部件为网格状遮光图案。
5.掩膜版，包括至少一遮光区域和非遮光区域，其特征在于：非遮光区域在靠近遮光区域设有相互连接的多个透镜。
6.液晶显示模组，包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶，彩膜基板或阵列基板在非显示区域设有框胶，其特征在于：权利要求1至5任一项所述的掩膜版的非遮光区域对应框胶的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京中电熊猫液晶显示科技有限公司，未经南京中电熊猫液晶显示科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420551864.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：纸带音乐盒时钟
- 下一篇：一种拼接墙系统集中式液冷散热装置
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
