[实用新型]一种内置磁体的射钉凹槽有效
申请号: | 201420554672.2 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN204209642U | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 张恩铎 | 申请(专利权)人: | 天津恩铎机械有限公司 |
主分类号: | B25C7/00 | 分类号: | B25C7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300270 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 内置 磁体 凹槽 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种射钉机构,具体为一种内置磁体的射钉凹槽。
背景技术
现有的射钉机构在进行自动射钉时,经常由于射钉在凹槽内的位置不固定导致射钉失败,需要人工进行位置校正,既影响了工作效率,又增加了人力成本,同时也会提高操作危险性。
实用新型内容
为了克服现有技术中存在的上述技术问题,本实用新型提供了一种可有效固定射钉位置的内置磁体的射钉凹槽。
本实用新型提供的内置磁体的射钉凹槽,包括射钉凹槽滑道,以及三面环绕所述射钉凹槽滑道的射钉凹槽本体,所述射钉凹槽本体的内部设置有磁体。
优选地,所述磁体至少有3个。
优选地,至少1个磁体位于所述射钉凹槽滑道的正下方。
优选地,至多2个磁体分别位于所述射钉凹槽滑道的两侧。
本实用新型的射钉凹槽,通过在内部设置磁体,使得射钉在凹槽内的位置符合射钉操作的需要,无需人工进行校正,提高了操作的自动化水平,提高了工作效率。
附图说明
图1为本实用新型的射钉凹槽的俯视图
图2为本实用新型的射钉凹槽的侧视图
图中标号说明如下:
1-射钉凹槽滑道;2-射钉凹槽本体;3-磁体。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做出简要说明。
根据附图所示,一种内置磁体的射钉凹槽,包括射钉凹槽滑道1,以及三面环绕所述射钉凹槽滑道的射钉凹槽本体2,射钉凹槽本体2的内部设置有3个磁体3。
其中,1个磁体位于钉凹槽滑道1的正下方,2个磁体分别位于射钉凹槽滑道1的两侧。
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