[实用新型]一种还原炉硅芯安装装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及多晶硅还原生产辅助设备技术领域，特别是涉及一种还原炉硅芯安装装置。

背景技术

改良西门子法多晶硅生产工艺中，还原炉内放置多组硅芯，每组硅芯包括两根与底盘垂直的硅芯和一根与底盘平行的硅芯，三根硅芯组成“∏”型，可构成单独的电流回路。硅芯与还原炉底盘的石墨件的夹头紧密连接，以获得良好的接触面，才能保证电流能够均匀通过。同时，要保证两根竖直硅芯相对于还原炉底盘的垂直度，防止在还原炉开炉送气阶段气流紊乱导致硅芯歪倒，以及在沉积阶段随着硅芯直径的增粗、重心偏移导致倒棒，造成经济损失并给设备造成损害。

传统的还原炉硅芯安装通常利用装配车实现，装配车的作业平台能够竖直升降，也能够水平小幅移动。当需要在还原炉底盘上安装硅芯时，装配车沿还原炉底盘的外周移动到待安装位置附近后，作业平台承载着1个安装人员提升至一定高度，并水平移动到待安装位置，由2个安装人员拿着硅芯，分别与站在作业平台上的安装人员和站在还原炉底盘上的安装人员配合，将硅芯竖直插入还原炉底盘上的石墨件的夹头，并由另外一个安装人员目测指挥调整硅芯与还原炉底盘的垂直度，待硅芯的垂直度调整好之后，由站在还原炉底盘上的安装人员拧紧石墨件的夹头，从而将硅芯竖直安装在还原炉底盘上，之后，再将另外一根硅芯按照同样的方法竖直安装在还原炉底盘上，最后将第三根硅芯横向安装于两根竖直的硅芯的顶端，从而完成一组硅芯的安装。

然而，由于多晶硅内的硼、磷、铁、铝等杂质含量在ppt(Part Per Trillion，万亿分之一)级，即10^-12级，其中碳、氧浓度都在0.2*10¹⁷atm/cm³以下，少量的杂质引入都会影响多晶硅产品的品质，也就是说，多晶硅产品受环境洁净度、人为操作污染的影响很大，而在硅芯安装过程中，需要有安装人员站在还原炉底盘上，与装配车上的安装人员配合作业，难以保证多晶硅产品的品质。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中存在的上述不足，提供一种还原炉硅芯安装装置，用以解决还原炉硅芯安装过程中对还原炉底盘和电极造成污染的问题。

本实用新型为解决上述技术问题，采用如下技术方案：

本实用新型提供一种还原炉硅芯安装装置，包括：两层的装配架，所述装配架包括配重区、下层作业区和用于进行水平安装硅芯的操作的上层作业区，配重区内设置有配重块，用以保持装配架的平衡，下层作业区和上层作业区从所述配重区水平延伸而出；

所述下层作业区的下表面的高度高于还原炉底盘的高度，以便在所述下层作业区内进行将石墨件安装在还原炉底盘上的操作。

进一步的，所述装置还包括能够水平调节所述上层作业区和下层作业区的作业位置的延伸机构。

优选的，所述上层作业区包括顶部横梁和能够承载安装人员的上层底板，所述下层作业区包括能够承载安装人员的下层底板；

所述延伸机构包括行程梁和支撑板，设置于上层作业区顶部的行程梁与所述顶部横梁相连，能够水平延伸或收回，设置于上层作业区底部的行程梁能够从所述上层底板水平延伸或收回，设置于上层作业区底部的支撑板能够沿上层作业区底部的行程梁水平延伸或收回；下层作业区底部的行程梁能够从所述下层底板水平延伸或收回，设置于下层作业区底部的支撑板能够沿下层作业区底部的行程梁水平延伸或收回。

进一步的，所述装置还包括用于竖直容置硅芯的硅芯放置架，所述硅芯放置架设置于所述装配架的上层作业区和下层作业区。

优选的，所述硅芯放置架成组设置，所述装置设置有两组硅芯放置架。

优选的，所述上层作业区包括顶部横梁和能够承载安装人员的上层底板，所述下层作业区包括能够承载安装人员的下层底板；

每组硅芯放置架包括：水平开口的第一U型槽和第二U型槽，第一U型槽设置于所述下层作业区底部的支撑板上，第二U型槽设置于上层作业区顶部的行程梁上，第一U型槽的开口与第二U型槽的开口方向一致。

进一步的，所述装置还包括硅芯对准器，所述硅芯对准器设置于上层作业区，能够抓取硅芯，借助硅芯的自重，使硅芯处于竖直状态，并能够将所述硅芯移动至还原炉底盘的待安装位置。

优选的，所述硅芯对准器包括：多节拐臂和竖直设置的夹持部件，各节拐臂通过连接轴相连，首节拐臂的一端设置于上层作业区，末节拐臂的一端与所述夹持部件软连接。

进一步的，所述装置还包括用于容置石墨件的石墨件放置箱，所述石墨件放置箱设置于所述下层作业区。