[实用新型]用于磁控溅射设备的新型导轮

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于磁控溅射设备的导轮，尤其涉及一种用于磁控溅射设备且用于解决因饶镀薄膜引发绝缘性能下降问题的新型导轮。

背景技术

磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法，磁控溅射设备则是实现磁控溅射过程的设备。

磁控溅射设备的腔体内，产品行进方向两侧会使用一种圆形的导轮(即导向轮)用于原料纠正行进方向，该导轮必须要保证绝缘性能才能保证产品品质。导轮包括导轮本体和定位轴，虽然导轮本体是绝缘的，但固定轴是导体，目前的导轮本体除中心通孔外为实心结构，因导轮本体的滚动表面和两侧表面在溅镀薄膜时伴随的绕镀现象，在使用过程中，会逐渐引起对地绝缘性能下降，造成产品膜面通过导轮对地放电造成不良和报废的问题。

具体地，传统导轮的结构如图1所示，包括导轮本体3、定位轴1、紧固螺丝2和固定块4，定位轴1通过紧固螺丝2与固定块4连接，导轮本体3套装于定位轴1外，导轮本体3在使用时跟随向前运行的产品旋转，由于对产品进行溅镀薄膜时会溅射到导轮本体3的表面形成绕镀现象，即：如图2所示，溅镀薄膜过程中在导轮本体3的表面形成饶镀薄膜5，由于导轮本体3除中心通孔外为实心结构，所以饶镀薄膜5是完全导通的，从而使向前运行的产品膜面与定位轴1之间通过导轮本体3上的饶镀薄膜5导电，定位轴1则会通过紧固螺丝2与固定块4最终接地，所以会导致产品膜面通过导轮对地放电造成不良和报废的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种在溅镀薄膜过程中长时间保持绝缘性能的用于磁控溅射设备的新型导轮。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种用于磁控溅射设备的新型导轮，包括导轮本体，所述导轮本体套装于定位轴外，所述导轮本体的两侧表面分别设有第一环形凹槽和第二环形凹槽。

具体地，所述第一环形凹槽的径向截面为长方形或大致长方形，该长方形或大致长方形的长边与所述定位轴的轴向平行；所述第二环形凹槽的径向截面为“L”形，该“L”形的长边与所述定位轴的轴向垂直，该“L”形的短边使所述导轮本体上对应的一侧与所述定位轴之间隔断。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型通过在导轮本体的两侧表面分别设置环形凹槽，使导轮本体表面被溅射的绕镀薄膜在环形凹槽处断开，直到绕镀薄膜的厚度超过环形凹槽的宽度一半以上才会导通，所以，本新型导轮能长时间阻断环形凹槽两边绕镀薄膜的连接，避免其绝缘性能下降，保证了产品膜面质量。

附图说明

图1是用于磁控溅射设备的传统导轮的剖视结构示意图；

图2是用于磁控溅射设备的传统导轮被溅射绕镀薄膜后的剖视结构示意图；

图3是本实用新型所述用于磁控溅射设备的新型导轮的剖视结构示意图；

图4是本实用新型所述用于磁控溅射设备的新型导轮被溅射绕镀薄膜后的剖视结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

如图3所示，本实用新型所述用于磁控溅射设备的新型导轮包括导轮本体6、定位轴1、紧固螺丝2和固定块4，定位轴1通过紧固螺丝2与固定块4连接，导轮本体6套装于定位轴1外，导轮本体6的两侧表面分别设有第一环形凹槽8和第二环形凹槽7，其中，第一环形凹槽8的径向截面为长方形或大致长方形，该长方形或大致长方形的长边与定位轴1的轴向平行；第二环形凹槽7的径向截面为“L”形，该“L”形的长边与定位轴1的轴向垂直，该“L”形的短边使导轮本体6上对应的一侧与定位轴1之间隔断。

说明：上述导轮本体6的两侧表面是指导轮本体6上位于滚动接触表面两侧的表面。

如图4所示，使用过程中，导轮本体6会跟随向前运行的产品(图中未示)旋转，对产品进行溅镀薄膜时会溅射到导轮本体6的表面形成饶镀薄膜5，由于导轮本体6的两侧表面分别设有第一环形凹槽8和第二环形凹槽7，所以饶镀薄膜5会被第一环形凹槽8和第二环形凹槽7隔断，使产品膜面与定位轴1之间保持绝缘，从而解决了产品膜面通过导轮对地放电造成不良和报废的问题。

由于饶镀薄膜5的形成是一个比较缓慢的过程，所以在饶镀薄膜5的厚度达到第一环形凹槽8和第二环形凹槽7的宽度的一半之前，导轮本体6上的饶镀薄膜5都是被隔断的，只有第一环形凹槽8和/或第二环形凹槽7对应位置的饶镀薄膜5足够厚时，才会导致导轮本体6上的饶镀薄膜5连通成为导体，使产品膜面接地。

第一环形凹槽8和第二环形凹槽7是为了隔断饶镀薄膜5，所以其具体结构还有多种变形，比如：第二环形凹槽7也采用第一环形凹槽8的结构，同时错位排列；或者第一环形凹槽8也采用第二环形凹槽7的结构；另外也可采用其它形状的凹槽，只要能实现隔断饶镀薄膜5的功能即可，这些变形的结构均未脱离本实用新型的技术实质，所以均应落入本实用新型的保护范围之内。