[实用新型]种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及种植牙系统技术领域，具体涉及一种种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构。

背景技术

目前，市场上流行的牙种植体系统中，种植体与基台间的连接方式越来越多地采用圆锥面配合加抗旋转结构。而抗旋结构都是“有根”类型，所谓“有根”是指设于基台的外侧面的键槽与基台的外侧面之间的连接处或多边形棱柱在与圆锥体的连接处“嘎然而止”，也即没有任何过渡而造成应力集中，而应力集中会大大减弱基台的强度，进而影响基台的使用寿命。

如申请号为CN20102023813.8的实用新型专利公开一种口腔种植体装置，该口腔种植体装置的基台采用了“有根”的六棱柱抗旋结构(即图6所示的方榫211)，在基台的六棱柱的根部即基台的方榫211与圆锥体(具体为图6的圆锥面212)连接处，存在一定程度的应力集中。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于解决当前的基台的抗旋转结构的应力集中比较严重的问题。

为到达上述之技术目的，本实用新型提供一种种植牙系统的基台，通过螺栓与种植体连接，所述种植体具有安装端面以及自所述安装端面开设的圆柱孔，所述圆柱孔的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔的延伸方向延伸的凸键：

所述种植牙系统的基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的键槽，所述键槽的靠近所述基台主体的一端呈倒角设置，以使所述键槽的底面的靠近所述基台主体的一边与所述配合部的外侧壁平滑连接，多个所述键槽用以对应与多个所述凸键配合，以限制所述种植牙系统的基台与所述种植体相对转动。

优选地，所述键槽的靠近所述基台主体的一端呈圆弧倒角设置。

优选地，所述键槽的贯穿所述配合部的端面的端口，由所述键槽的内部向外呈渐宽设置，以导引所述键槽与所述凸键配合。

优选地，所述键槽具有与其底面连接且呈相对设置的两个内侧面，所述两个内侧面在远离所述键槽的底面的方向呈渐开设置，且所述键槽的两个内侧面之间呈第一夹角设置，所述第一夹角为5～12度。

为到达上述之技术目的，本实用新型还提供一种种植牙系统的种植体与基台的组合结构，包括种植体、基台和连接所述种植体和所述基台的螺栓：

所述种植体具有安装端面以及自所述安装端面开设的圆柱孔，所述圆柱孔的内壁凸设有多个沿所述圆柱孔的延伸方向设置的凸键；

所述基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的键槽，所述键槽的靠近所述基台主体的一端呈倒角设置，以使所述键槽的底面的靠近所述基台主体的一边与所述配合部的外侧壁平滑连接，多个所述键槽用以对应与多个所述凸键配合，以限制所述基台与所述种植体相对转动。

优选地，所述键槽的靠近所述基台主体的一端呈圆弧倒角设置。

优选地，所述键槽的贯穿所述配合部的端面的端口，由所述键槽的内部向外呈渐宽设置，以导引所述键槽与所述凸键配合。

优选地，所述键槽具有与其底面连接且呈相对设置的两个内侧面，所述两个内侧面在远离所述键槽的底面的方向呈渐开设置，且所述键槽的两个内侧面之间呈第一夹角设置，所述第一夹角为5～12度。

优选地，所述凸键的靠近所述安装端面的一端呈倒角设置，以使所述凸键具有朝向所述圆柱孔的中心的导引面。

优选地，所述种植体还具有连接所述安装端面和所述圆柱孔设置的锥形孔，所述导引面呈圆锥面设置，且所述导引面与所述锥形孔的内表面位于同一内圆锥面上，所述配合部包括与所述基台主体连接且与所述圆锥孔配合的圆锥段、以及插置于所述圆柱孔中的插置端。

本实用新型提供的种植牙系统的基台及其种植体与基台的组合结构，所述种植牙系统的基台包括基台主体、以及自所述基台主体的一端延伸用以与所述圆柱孔配合的配合部，所述配合部的外侧壁设有多个沿着所述配合部的延伸方向延伸且贯穿所述配合部的端面设置的键槽，所述键槽的靠近所述基台主体的一端呈倒角设置，以使所述键槽的底面的靠近所述基台主体的一边与所述配合部的外侧壁平滑连接，而使得所述键槽的靠近所述基台主体的一端不会因突然下凹而在此处突然改变形状，以使在所述键槽的靠近所述基台主体的一端产生应力集中。

附图说明

图1为本实用新型提供的种植牙系统的种植体与基台的组合结构的一实施例中的剖视结构示意图；