[实用新型]一种电化学水垢去除装置有效
申请号: | 201420574938.X | 申请日: | 2014-09-30 |
公开(公告)号: | CN204198535U | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 章明歅;章俊杰 | 申请(专利权)人: | 北京顺泰创新科技发展有限公司 |
主分类号: | C02F9/06 | 分类号: | C02F9/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 102208 北京市昌平区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电化学 水垢 去除 装置 | ||
1.一种电化学水垢去除装置,包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元,所述晶核生成单元包括槽体;
所述槽体的底部设有进水口和排污口;
设置于所述槽体内部的隔膜,所述隔膜将槽体分为阳极室和阴极室;
设置于所述阳极室内部的阳极;
设置于所述阴极室内部的阴极和辅助电极;
所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。
2.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述辅助电极为网状形稳性电极。
3.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述隔膜为阳离子膜。
4.根据权利要求3所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述隔膜为全氟阳离子膜。
5.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述阴极为碳钢阴极、不锈钢阴极、钛阴极、钛合金阴极或铝合金阴极。
6.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述水垢晶核生成单元还包括阴极刮刀;
所述槽体的上下两端均为端板,上端板上设有卡槽;
所述阴极刮刀单独固定在所述槽体的上端板的卡槽上。
7.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述阴极为圆柱状。
8.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述阳极为圆柱状形稳性电极或网状形稳性电极。
9.根据权利要求8所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述隔膜与阳极一起固定。
10.根据权利要求1所述的电化学水垢去除装置,其特征在于,所述阴极为筒状,所述阳极布置在阴极的筒状腔室之内。
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