[实用新型]一种研磨垫有效
| 申请号： | 201420581031.6 | 申请日： | 2014-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN204135871U | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 魏红建 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨垫，其特征在于，所述研磨垫包括：研磨垫体；形成于所述研磨垫体表面的若干个圆环形沟槽；以及形成于所述研磨垫体边缘区域的台阶结构。
2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述研磨垫体的形状为圆盘形。
3.根据权利要求2所述的研磨垫，其特征在于：所述台阶结构的整体形状为圆环形。
4.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述台阶结构包括多个梯度相等的台阶。
5.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述台阶结构的各台阶表面形成有不同的标识结构。
6.根据权利要求5所述的研磨垫，其特征在于：所述不同的标识结构为不同颜色的涂层。
7.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述台阶结构包括3～8个台阶。
8.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述台阶结构的总高度不小于所述圆环形沟槽的深度。
9.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述研磨垫为机械化学抛光用的研磨垫。
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