[实用新型]一种用于3D打印喷头的表面处理装置有效
申请号: | 201420614463.2 | 申请日: | 2014-10-21 |
公开(公告)号: | CN204278534U | 公开(公告)日: | 2015-04-22 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 成都金采科技有限公司 |
主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 周永宏 |
地址: | 611731 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 打印 喷头 表面 处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于本实用新型属于3D先进制造领域,尤其涉及一种用于3D 打印喷头的表面处理装置。
背景技术
近年,3d 打印机越来越普及,但由于受到成型工艺和成型速度的制约,3d 打印机打印出来的模型很难克服在Z轴方向形成的层叠纹理,这样对于3d打印机在工业和民用市场的广泛应用受到一定的制约。传统针对3d打印模型的处理,都是通过上灰、打磨、喷色这些步骤,但是由于 3d 打印模型一般结构比较复杂,所以处理起来耗时,而且对人员的要求高,效率低,严重影响了 3d打印在民用市场的应用。
发明内容
本实用新型目的是提供一种用于3D 打印喷头的表面处理装置,包括环形上部、环形下部,所述环形上部与所述环形下部同心设置,其中,所述环形上部的内部分别具有左右两个独立的中空半圆形空腔;
环形上部的环形侧壁对称分布有左进料口和右进料口;所述环形下部的左右两边的内部分别设置有独立的同心的环形出料口。
所述的每个环形出料口的纵截面呈倒置的梯形。
所述的中空半圆形左空腔为胶水储存腔。
所述的中空半圆形右空腔为浮饰材料储存腔。
所述的环形左出料口为胶水出料口。
所述的环形右出料口为浮饰材料出料口。
本实用新型的有益效果:本实用新型本专利主要针对 3D 打印模型表面处理方式提供一种新的3D打印喷头,使 3D 打印模型能克服表面层叠纹理,加工简单,实用性强。本实用新型由于解决了 3D 打印模型在实际应用当中表面光滑度与传统加工工艺有一定区别的客观问题。
附图说明
图1为本实用新型的结构图;
图2为3D打印喷头的装配图。
其中,外壳1、喷嘴2、加热器件3、固定座4、表面处理装置5、左进料口5.2、环形上部5.3、左空腔5.4、左出料口5.5、环形下部5.6、右空腔5.7、右进料口5.8、右出料口5.9。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例对本实用新型作进一步的阐述。
如图1和2所示,本实用新型3D打印喷头包括外壳1、喷嘴2、环绕在喷嘴1外壁上的加热器件3、固定座4、表面处理装置5。所述固定座4中空设有通孔并固定设置在外壳1的腔体内,所述喷嘴2一端为穿出外壳的嘴尖,喷嘴2另一端的通孔与固定座 5 的通孔对接形成耗材输送腔体。所述模型表面处理装置5 覆盖在所述喷嘴 2 的嘴尖外壁上。其中加热器件3为PTC陶瓷制成的环形加热器件。
在模具打印的同时表面处理装置5也开始工作。
表面处理装置5包括环形上部5.3、环形下部5.6,所述环形上部5.3与所述环形下部5.6同心设置,其中,所述环形上部5.3的内部分别具有两个独立的中空半圆形左空腔5.4和右空腔5.7;
环形上部5.3的环形侧壁对称分布有左进料口5.2和右进料口5.8;所述环形下部5.6的左右两边的内部分别设置有独立的同心的环形出左料口5.5和右出料口5.9。
每个环形出料口的纵截面呈倒置的梯形。
中空半圆形左空腔5.4为胶水储存腔。
中空半圆形右空腔5.7为浮饰材料储存腔。
环形左出料口5.5为胶水出料口。
环形右出料口5.9为浮饰材料出料口。
首先,白乳胶通过左进料口5.2进出胶水储存腔左空腔5.4经过胶水导孔环形左出料口5.5,在打印完成的 3d 模型表面涂上白乳胶等慢干性胶水形成胶水层,即胶水固化时间控制在30~60分钟,胶水必须有较好的附着力,尽量使胶水填平层叠纹理中间凹下去的部分。
然后,浮饰材料通过右进料口5.8进入浮饰材料储存腔右空腔5.7经过右出料口5.9,在涂抹均匀胶水的3d模型表面,喷洒直径大小在50um~200um塑胶片或粉末作浮饰,让浮饰材料沾附在胶水层上形成浮饰层,喷洒时必须注意浮饰层的厚度,保持模型的轮廓不受影响,这阶段工艺要求浮饰层尽量要薄,只要能完全覆盖模型表面就可以。
最后,在浮饰层处理好后,为了能使浮饰层不再脱落,在浮饰层表面我们需要用光油进行喷涂形成保护层,喷涂时注意少量多次,防止保护层影响浮饰的效果。
本领域的普通技术人员将会意识到,这里所述的实施例是为了帮助读者理解本实用新型的原理,应被理解为本实用新型的保护范围并不局限于这样的特别陈述和实施例。本领域的普通技术人员可以根据本实用新型公开的这些技术启示做出各种不脱离本实用新型实质的其它各种具体变形和组合,这些变形和组合仍然在本实用新型的保护范围内。
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