[实用新型]薄膜蒸镀设备及薄膜蒸镀系统

权利要求书

1.一种薄膜蒸镀设备，其特征在于，包括：匹配箱、喂料单元、主室；其中，所述喂料单元的一端设置有匹配箱，其另一端设置有主室；

所述匹配箱的内部设置有射频源及直流源，用于产生等离子；

所述喂料单元用于提供蒸镀的源材料；

所述主室，用于提供薄膜蒸镀的空间。

2.如权利要求1所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述主室的内部设置有保护罩单元，所述保护罩单元设置于所述源材料与所述主室的内壁之间。

3.如权利要求1所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述主室内部还设置有加热单元及控制所述加热单元作升降运动的升降单元。

4.如权利要求3所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述加热单元设置有超模针，所述超模针用于调整所述加热单元上的晶圆的位置。

5.如权利要求1所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述匹配箱内部还设置有过滤器，所述过滤器设置于所述射频源与所述直流源之间。

6.如权利要求1所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述喂料单元通过铜电极棒与所述匹配箱相连。

7.如权利要求1所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述喂料单元内部设置有磁单元、控制所述磁单元运动的磁转动单元、设置于所述磁单元一侧的源材料。

8.如权利要求7所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述喂料模块设置有干扰阻挡结构及射频绝缘结构，所述干扰阻抗结构设置于所述磁单元及所述磁转动单元的周围；所述射频绝缘结构设置于所述源材料周围。

9.如权利要求8所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，所述干扰阻挡结构的材质为树脂材料。

10.如权利要求8所述的薄膜蒸镀设备，其特征在于，还设置有低温泵，所述低温泵设置于所述主室的一侧，用于调节所述主室中的压力。

11.一种薄膜蒸镀系统，其特征在于，包括：一固定架及设置于所述固定架上的多个装载室、多个定向室、多个传递室及多个如权利要求1-10中任一项所述的薄膜蒸镀设备；其中，

所述装载室，用于装载需要镀膜的若干晶圆；

所述定向室，用于对所述若干晶圆进行对准；

所述传递室，用于将在所述定向室中对准后的若干晶圆搬运到所述薄膜蒸镀设备；

所述薄膜蒸镀设备，用于对所述传递室搬运过来的每个晶圆进行薄膜蒸镀。

12.如权利要求11所述的薄膜蒸镀系统，其特征在于，所述薄膜蒸镀设备的外壁由金属制成。