[实用新型]一种随钻补偿密度源仓结构和具有该源仓的钻铤有效

专利信息
申请号: 201420618646.1 申请日: 2014-10-23
公开(公告)号: CN204371321U 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 闫麦奎;卫一多;徐韧;马颖;赵常青;刘枭;杨颋;王俊超;王涯菲;李玲芝 申请(专利权)人: 中国石油天然气集团公司;中国石油集团测井有限公司
主分类号: E21B49/00 分类号: E21B49/00;E21B17/16
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 100007 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 补偿 密度 结构 具有
【权利要求书】:

1.一种随钻补偿密度源仓结构,其特征在于,包括源仓(4)和源室(22),源室(22)为横向贯穿源仓(4)的圆孔,源室(22)内安装有源封装壳体(7),源封装壳体(7)内封装有源(8);源仓(4)上设置有用于固定源仓(4)位置的两凸耳(19)、台阶(21)和弹性卷销孔(14),两凸耳(19)和台阶(21)分别位于源仓前后两端,弹性卷销孔(14)为横向贯穿源仓(4)的圆孔,所述源仓(4)顶面开设有一与源室(22)相通的斜直孔,斜直孔(20)内安装有仓盖(13)。

2.根据权利要求1所述的一种随钻补偿密度源仓结构,其特征在于,所述凸耳(19)内设置有螺钉孔(17),螺钉孔(17)下端安装有螺钉,上端设置有便于源仓(4)拆卸的提丝螺纹(18),提丝螺纹(18)与螺钉之间设置有挡圈槽,挡圈槽内设置有防止螺钉松脱的挡圈。

3.根据权利要求1所述的一种随钻补偿密度源仓结构,其特征在于,所述源仓(4)侧面开设有一用于固定仓盖(13)位置的锁紧销孔(12)。

4.一种具有权利要求1-3任一项所述源仓结构的钻铤,其特征在于,包括源仓(4)、钻铤(1)、通孔、第一台阶(21)孔和源封装壳体(7),所述钻铤(1)在安装源(8)的部分采用变径设计,源仓(4)安装在变径部分开设的凹槽中,通孔和第一台阶(21)孔设置在钻铤(1)上且与源仓(4)的源室(22)同轴,第一台阶(21)孔内安装有定位螺母(5),定位螺母(5)上开设有第二台阶(21)孔,源封装壳体(7)一端依次穿过通孔和源室(22)抵接在定位螺母(5)的第二台阶(21)孔内,另一端套设在与通孔螺纹连接的源帽(2)内,源帽(2)上设置有安装开口挡圈(3)的凹槽,开口挡圈(3) 压入凹槽后将源帽(2)安装在通孔内,当开口挡圈(3)穿过通孔后弹开卡设在凹槽内壁上,防止源帽(2)松脱。

5.根据权利要求4所述的钻铤,其特征在于,所述开口挡圈(3)上设置有用于导向的锥面(15)。

6.根据权利要求4所述的钻铤,其特征在于,所述钻铤(1)外圆周上设置有泥浆反导槽(9)。

7.根据权利要求4所述的钻铤,其特征在于,所述定位螺母(5)通过螺钉固定在钻铤(1)上,源封装壳体(7)伸入定位螺母(5)的一端设置有内六方孔(6)。

8.根据权利要求4所述的钻铤,其特征在于,所述钻铤(1)内设置有与源仓(4)的台阶(21)配合固定源仓(4)的压板,压板通过压板螺纹孔(11)固定在钻铤上。

9.根据权利要求4所述的钻铤,其特征在于,所述钻铤(1)上设置有圆孔,弹性卷销通过圆孔装入弹性卷销孔(14)。

10.根据权利要求4所述的钻铤,其特征在于,所述开口挡圈(3)采用复合材料PEEK制造。

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