[实用新型]正胶显影液制备装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种正胶显影液制备装置。 

背景技术

TMAH，即四甲基氢氧化铵可以作为光刻制程中的正胶显影液。对于大尺寸的产品，需要先在碱洗槽中使用正胶显影液对产品进行显影，然后将产品取出，再用清水冲洗，产品取出后一般希望正胶显影液尽可能少量的附着于产品表面便于后续的清水冲洗，因此需要正胶显影液具有较低的表面张力。在产品取出碱洗槽后残余在产品上的正胶显影液后会暴露在空气中，残余在产品上的TMAH会与空气中的二氧化碳发生反应，在产品上形成斑点，后经过清水冲洗也难以去除，影响产品质量。因此寻求一种生产出的正胶显影液具有低表面张力，避免与二氧化碳反应的正胶显影液制备装置尤为重要。 

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种生产出的正胶显影液具有低表面张力，避免与二氧化碳反应的正胶显影液制备装置。 

本实用新型的目的是这样实现的： 

一种正胶显影液制备装置，它包括配制罐、四甲基氢氧化铵储罐、聚乙二醇储罐、清水储罐、氢氧化钾储罐、水洗槽、氨气罐、过滤装置以及成品罐，所述配制罐顶部的五个进料口分别连接四甲基氢氧化铵储罐、聚乙二醇储罐、清水储罐、氢氧化钾储罐以及水洗槽，水洗槽连接氨气罐，配制罐底部的出料口通过过滤装置连接成品罐，配制罐的顶部还通过管道连接有水封。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是： 

本实用新型正胶显影液制备装置在配制罐中可以通入聚乙二醇储罐以及氢氧化钾，使得生产出的正胶显影液具有低表面张力，避免与二氧化碳反应的优点。

附图说明

图1为本实用新型正胶显影液制备装置的结构示意图。 

其中： 

配制罐1、四甲基氢氧化铵储罐2、聚乙二醇储罐3、清水储罐4、氢氧化钾储罐5、水洗槽6、氨气罐7、过滤装置8、成品罐9。

具体实施方式

参见图1，本实用新型涉及的一种正胶显影液制备装置，它包括配制罐1、四甲基氢氧化铵储罐2、聚乙二醇储罐3、清水储罐4、氢氧化钾储罐5、水洗槽6、氨气罐7、过滤装置8以及成品罐9，所述配制罐1的顶部设置有五个进料口，其中四甲基氢氧化铵储罐2的出料口与配制罐1的第一个进料口之间连接有第一管道，聚乙二醇储罐3的出料口与配制罐1的第二个进料口之间连接有第二管道，清水储罐4的出料口与配制罐1的第三个进料口之间连接有第三管道，氢氧化钾储罐5的出料口与配制罐1的第四个进料口之间连接有第四管道，水洗槽6的出料口与配制罐1的第五个进料口之间连接有第五管道，氨气罐7的出料口与水洗槽6的进料口之间连接有第六管道，配制罐1底部的出料口与过滤装置8之间连接有第七管道，过滤装置8与成品罐9之间连接有第八管道10。以上各根管道上根据需要设置输送泵。配制罐1的顶部还通过管道连接有水封10。 

制备原理： 

将四甲基氢氧化铵储罐内的四甲基氢氧化铵输送至配制罐中，由清水储罐向配制罐通入清水对四甲基氢氧化铵进行稀释至2.4%，在配制罐中按照3:1:1的比例通入聚乙二醇、水洗后的氨气以及氢氧化钾，最终四甲基氢氧化铵的浓度为2.38%。其中通入的聚乙二醇为表面活性剂，可以使得正胶显影液成品的表面张力由传统的75~76mN/m降低至48~52mN/m，通入的氢氧化钾为添加剂，使得正胶显影液成品在空气中先由氢氧化钾于二氧化碳发生反应，从而避免四甲基氢氧化铵与二氧化碳接触发生反应，避免形成斑点。