[实用新型]一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪有效

专利信息
申请号: 201420620859.8 申请日: 2014-10-26
公开(公告)号: CN204168585U 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 周开根 申请(专利权)人: 衢州迪升工业设计有限公司
主分类号: H05H1/28 分类号: H05H1/28;H05H1/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 324000 浙江省衢州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 螺旋 导流 结构 等离子体 喷枪
【权利要求书】:

1.一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪,其特征是等离子体喷枪由绝缘枪架(2)、后座(1)、阴极(3)、阳极套(5)和阳极(4)组成,其中,绝缘枪架(2)为中空回转体结构,绝缘枪架(2)的前段体内有前安装槽(2-4),绝缘枪架(2)中段的内空间构成气室(Ⅵ),在气室(Ⅵ)与前安装槽(2-4)之间的壁体上有螺旋膛线(2-3),螺旋膛线(2-3)形成螺旋导流结构,螺旋膛线(2-3)的内空间构成螺旋导流孔道(Ⅴ),在绝缘枪架(2)的后段有连接法兰(2-1)或后安装槽(2-5);后座(1)为中空回转体结构,后座(1)上有安装法兰(1-1)或安装螺口(1-2);阳极套(5)为圆筒体结构,阳极套(5)后部的壁体外侧有安装螺纹(5-4),阳极套(5)的前端有榫座(5-2);阳极(4)为由后部向前逐渐扩张的圆锥形喷管结构,阳极(4)的后端为由后向前收窄的喇叭口结构,阳极(4)后端的喇叭口结构与圆锥形喷管结构之间有贯通的圆形孔道;阳极(4)以嵌入方式安装在阳极套(5)内,阳极(4)外壁与阳极套(5)内壁之间的空间构成冷却水套(Ⅳ);阳极套(5)携阳极(4)安装在绝缘枪架(2)的前安装槽(2-4)中,后座(1)安装在绝缘枪架(2)的后段上,阴极(3)安装在后座(1)的回转体结构前端,阴极(3)的头部从螺旋导流孔道(Ⅴ)中穿过并伸入到阳极(4)后端的喇叭口空间中;阳极(4)后端的喇叭口空间构成放电区(Ⅰ),阳极(4)后端的喇叭口结构与圆锥形喷管结构之间的圆形孔道构成压缩孔道(Ⅱ),阳极(4)的圆锥形喷管结构内空间构成喷射腔(Ⅲ);绝缘枪架(2)内的气室(Ⅵ)通过螺旋膛线(2-3)内的螺旋导流孔道(Ⅴ)连通到放电区(Ⅰ),放电区(Ⅰ)通过压缩孔道(Ⅱ)连通到喷射腔(Ⅲ)。

2. 根据权利要求1所述的一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪,其特征是在后座(1)的回转体结构内有冷却导流管(1-5),在后座(1)的回转体结构上有冷却水输入接口(1-6)和冷却水输出接口(1-7);阴极(3)为圆棒体结构,阴极(3)的身部体内有空间,阴极(3)身部体内的空间构成冷却腔(Ⅶ),阴极(3)的头部为实体结构,阴极(3)的头部内侧有向后伸出的冷却尾突(3-3),冷却尾突(3-3)为圆锥体结构,冷却尾突(3-3)朝向冷却腔(Ⅶ);冷却导流管(1-5)伸入到阴极(3)的冷却腔(Ⅶ)中,冷却导流管(1-5)的出水口在冷却尾突(3-3)的周边;冷却导流管(1-5)的内空间构成冷却供水通道(Ⅸ),冷却导流管(1-5)的外壁与后座(1)壁体之间的空间构成冷却回水通道(Ⅹ),冷却水输入接口(1-6)连通到冷却供水通道(Ⅸ),冷却供水通道(Ⅸ)通过冷却腔(Ⅶ)连通到冷却回水通道(Ⅹ),冷却回水通道(Ⅹ)连通到冷却水输出接口(1-7)。

3. 根据权利要求1所述的一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪,其特征是在阴极(3)的壁体后部有内螺纹槽口或在阴极(3)后端的壁体外侧有凸缘(3-2),当在阴极(3)的壁体后部有内螺纹槽口时,在后座(1)的中空回转体前端有连接螺口(1-3),阴极(3)安装在连接螺口(1-3)上;当在阴极(3)后端的壁体外侧有凸缘(3-2)时,在绝缘枪架(2)的中空回转体结构内有阴极的定位套(7),后座(1)的中空回转体前端顶压在阴极(3)的后端面上。

4. 根据权利要求1所述的一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪,其特征是阴极(3)的头部外形为由后向前缩小的圆锥形结构,阴极(3)的头端为圆弧形结构。

5. 根据权利要求1所述的一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪,其特征是在绝缘枪架(2)上有保护气进口(2-2)或在后座(1)上有保护气输入接口(1-4),当在绝缘枪架(2)上有保护气进口(2-2)时,保护气进口(2-2)直接连通到气室(Ⅵ);当在后座(1)上有保护气输入接口(1-4)时,后座(1)的回转体结构内有保护气通道(Ⅷ),保护气输入接口(1-4)通过保护气通道(Ⅷ)连通到气室(Ⅵ)。

6. 根据权利要求1所述的一种具有螺旋导流结构的等离子体喷枪,其特征是冷却水套(Ⅳ)有冷却剂进口(5-3)接入和冷却剂出口(5-1)接出,冷却剂进口(5-3)设置在阳极套(5)下方的壁体上,冷却剂出口(5-1)设置在阳极套(5)上方的壁体上。

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