[实用新型]一种酸性废水的处理装置有效
申请号: | 201420629667.3 | 申请日: | 2014-10-18 |
公开(公告)号: | CN204162576U | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 顾云峰 | 申请(专利权)人: | 顾云峰 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310022 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 酸性 废水 处理 装置 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种废水处理设备,具体涉及一种酸性废水的处理装置,属于环保集成设备技术领域。
【背景技术】
印染企业是工业废水排放大户,其具有水量大、有机污染物含量高、色度深、碱性大、水质变化大等特点,属难处理的工业废水。目前国内常用的印染废水处理工艺,主要分为两大类:一是物化法,即加入絮凝剂进行沉淀或气浮,去除废水中的污染物。由于加药费用高、去除污染物不彻底、污泥量大并难以进一步处理,会产生一定的二次污染,一般不单独使用;二是生化法,即利用微生物的作用,使污水中有机物降解、吸附而去除。由于近年来,大量难生化降解有机物如PVA浆料、人造丝碱解物(主要是邻苯二甲酸类物质)、新型助剂等进入印染废水,传统的生物处理工艺已受到严重挑战。加之国家不断提高排放水质的要求,通过深度处理的方法达到提标的要求也成为当今环保行业关注的课题。
因此,为了解决上述技术问题,确有必要提供一种酸性废水的处理装置,以克服现有技术中的所述缺陷。
【实用新型内容】
为解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种处理成本低,处理效果好,能减少二次污染的酸性废水的处理装置。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:一种酸性废水的处理装置,其包括调节池、MBR曝气池、Fenton氧化反应池、水解酸化池、缺氧池、沉淀池以及吸附树脂固定器;其中,所述调节池、MBR曝气池、Fenton氧化反应池、水解酸化池、缺氧池、沉淀池和吸附树脂固定器依次连接并形成一集成式处理设备;且于MBR曝气池和缺氧池之间设有一回流管。
本实用新型的酸性废水的处理装置进一步设置为:所述吸附树脂固定器为中空的钢化玻璃柱,其内填充有大孔吸附树脂层。
本实用新型的酸性废水的处理装置进一步设置为:于所述沉淀池底部设有污泥排出管。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:本实用新型的酸性废水的处理装置能够有效去除废水中难生物降解的有机物(CODCr)和色度,具有快速、高效的将废水中的污染物去除,达到净化水质、降低出水指标,处理成本低,处理效果好,能减少二次污染。
【附图说明】
图1是本实用新型的酸性废水的处理装置的原理图。
【具体实施方式】
请参阅说明书附图1所示,本实用新型为一种酸性废水的处理装置,其由调节池1、MBR(膜生物反应器)曝气池2、Fenton氧化反应池3、水解酸化池4、缺氧池5、沉淀池6以及吸附树脂固定器7等几部分组成。
其中,所述调调节池1、MBR曝气池2、Fenton氧化反应池3、水解酸化池4、缺氧池5、沉淀池6和吸附树脂固定器7依次连接并形成一集成式处理设备。且于MBR曝气池2和缺氧池5之间设有一回流管8。
所述吸附树脂固定器7为中空的钢化玻璃柱,其内填充有大孔吸附树脂层。所述大孔吸附树脂层对废水的吸附处理是在吸附树脂固定器7中进行,既可以保证吸附树脂在处理过程中不流失,也能保证废水流经吸附树脂固定器7能与大孔吸附树脂充分接触。所述大孔吸附树脂层采用碱液淋洗脱附再生,可重复利用。
于所述沉淀池6的底部设有污泥排出管9,通过污泥排出管9排出沉淀下来的污泥。
本实用新型的酸性废水的处理装置的工作原理如下:
1),在调节池1中加入用氢氧化钠溶液将印染废水的pH调节至8.5以上,之后排入MBR曝气池2;
2),废水在MBR曝气池2中进行反应,并在MBR曝气池5内停留时间为20小时,使废水中的有机物得以氧化;
3),废水经反应后进入Fenton氧化反应池3进行氧化反应,以对废水进行进一步处理;
4),经Fenton氧化反应池3反应后的废水进入水解酸化池4进行处理,水解酸化池4的停留时间为10小时;
5),之后废水进入缺氧池4进行缺氧处理,停留时间10小时;之后,检测废水处理指标,如果指标不符合要求,废水将通过回流管8排入MBR曝气池2再次进行处理;
6),废水经缺氧处理后排入沉淀池6进行沉淀;
7),之后废水经过吸附树脂固定器7内的大孔吸附树脂层进行吸附后排出。
通过本实用新型的酸性废水的处理装置处理后的出水水质指标如下:CODCr为100~130mg/L,色度30~40倍,pH为6.3~7.0。
以上的具体实施方式仅为本创作的较佳实施例,并不用以限制本创作,凡在本创作的精神及原则之内所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本创作的保护范围之内。
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