[实用新型]煎烤装置

权利要求书

1.一种煎烤装置，其特征在于，包括：

下烤盘；

上烤盘，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和所述下烤盘的至少一个上具有彼此平行且间隔开的多条凸筋，所述多条凸筋之间限定出导油通道，所述凸筋大体平行于所述上烤盘相对于所述下烤盘的枢转轴线。

2.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述凸筋沿直线或波浪形延伸。

3.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，每条所述凸筋的至少一端与其所在的所述上烤盘和/或所述下烤盘的内侧壁间隔开。

4.根据权利要求3所述的煎烤装置，其特征在于，所述凸筋的两端均与位于其两侧的所述上烤盘和/或所述下烤盘的内侧壁间隔开。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的煎烤装置，其特征在于，所述凸筋设在所述上烤盘上，所述上烤盘的邻近所述下烤盘的一端具有倒油槽，所述倒油槽与所述导油通道连通。

6.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述下烤盘包括：

煎烤区；

集油区，所述集油区环绕所述煎烤区设置，所述集油区的厚度小于所述煎烤区的厚度。

7.根据权利要求6所述的煎烤装置，其特征在于，所述煎烤区的厚度H与所述集油区的厚度h的关系满足：H-h≥1mm。

8.根据权利要求7所述的煎烤装置，其特征在于，所述煎烤区的厚度H为2-4mm，所述集油区的厚度h为1-2mm。

9.根据权利要求6所述的煎烤装置，其特征在于，所述集油区的上表面低于所述煎烤区的上表面。

10.根据权利要求9所述的煎烤装置，其特征在于，所述集油区的上表面和所述煎烤区的上表面通过斜面过渡。

11.根据权利要求9所述的煎烤装置，其特征在于，所述集油区上形成有贯通其厚度的漏油孔。

12.根据权利要求11所述的煎烤装置，其特征在于，所述漏油孔下方设置集油盒。

13.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述下烤盘的上表面上具有沿径向从外向内倾斜向下的斜面，所述斜面与水平面的夹角大于2度。

14.根据权利要求13所述的煎烤装置，其特征在于，所述下烤盘的上表面形成为具有尖端的锥形面。