[实用新型]一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种按摩装置，适用于膝盖滑膜炎，具体地说，涉及一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头，属于医疗器械技术领域。

背景技术

滑膜炎，是一种多发性疾病，其发病部位主要在膝关节。膝关节是人体滑膜最多，关节面最大和结构最复杂的关节，由于膝关节滑膜广泛并位于肢体表较浅部位，故遭受损伤和感染的机会较多，膝关节滑膜炎主要是因膝关节扭伤和多种关节内损伤，而造成的一组综合症。容易造成患者暂时或长期部分丧失劳动力，无论对患者和对社会的危害都较大。虽由许多有效的治疗方法，但仍有许多患者仍不能治愈。尤其是部分中青年患者，要承担许多社会和家庭责任，同时又在长期忍受疼痛的折磨。

目前，膝盖滑膜炎的治疗多采用理疗仪进行辅助治疗，治疗过程中，一般需要将外用药膏涂抹在膝盖处，然后再利用理疗仪进行按摩，以促进药膏的吸收，达到消炎止痛的效果。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对以上不足，提供一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头，具有自动涂抹药膏并进行按摩的作用，使用方便，且减轻医护人员的劳动，另外还可避免直接接触药膏，干净卫生。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头，包括用于储存药膏的储药构件和用于涂抹药膏至患处并进行按摩的按摩构件，储药构件的外周套装有罩体；

所述储药构件的外周设有储药槽，储药槽的中心线与储药构件的母线之间具有夹角。

一种优化方案，所述储药构件包括呈圆台状的储药构件本体，储药构件本体的底部连接有圆筒状的延长部，储药构件本体内具有空腔；

所述储药槽设有若干个，储药槽均布在储药构件本体的外壁上，每个储药槽的底部分别设有若干个通孔，通孔用于连通储药槽和空腔。

另一种优化方案，所述按摩构件设置在延长部的腔体内，按摩构件与储药构件本体之间设有可开闭的挡板。

再一种优化方案，所述按摩构件具有内凹的按摩面，按摩构件上贯穿有出药孔。

进一步的优化方案，所述通孔的中心线与储药槽底部的垂线之间具有夹角，且出口方向向下倾斜。

本实用新型采用以上技术方案，与现有技术相比，具有以下优点：包括储药构件和按摩构件，储药构件的外周套装有罩体，储药构件的外周设有用于储存药膏的储药槽，储药构件内设有空腔，储药槽和空腔之间贯穿有通孔，按摩构件设置在储药构件的下部，按摩构件与储药构件本体之间设有可开闭的挡板，按摩构件具有内凹的按摩面，按摩构件上贯穿有出药孔，治疗时，将按摩头置于待治疗膝盖上，打开挡板，药膏在按摩头旋转过程中均匀涂抹在膝盖处，在按摩面的旋转按摩过程中促进药膏的吸收，达到消炎止痛的作用。

储药槽的中心线与储药构件的母线之间具有夹角，且通孔的中心线与储药槽底部的垂线之间具有夹角，且出口方向向下倾斜，进一步保证了药膏出药的均匀性，各部件之间可拆卸连接，便于清理。

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细说明。

附图说明

附图1是本实用新型实施例中按摩头的结构示意图；

附图2是本实用新型实施例中储药构件的结构示意图；

1-储药构件，11-储药构件本体，12-储药槽，13-通孔，14-空腔，15-延长部，16-中心孔，2-按摩构件，21-按摩面，22-出药孔，3-罩体，4-中心轴，5-挡板。

具体实施方式

实施例，如图1和图2所示，一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头，包括可拆卸连接的储药构件1和按摩构件2，储药构件1的外周套装有罩体3，储药构件1和按摩构件2的中心分别传动连接有中心轴4。

储药构件1包括呈圆台状的储药构件本体11，储药构件本体11的底部连接有延长部15，延长部15呈圆筒状，储药构件本体11内具有空腔14，储药构件本体11的外壁上均布有若干条储药槽12，每个储药槽12的底部分别设有若干个通孔13，所述通孔13用于连通储药槽12和空腔14，储药构件本体11的中心设有用于容纳中心轴4的中心孔16。

按摩构件2设置在延长部15的腔体内，按摩构件2与储药构件本体11之间设有可开闭的挡板5。

按摩构件2具有按摩面21，所述按摩面21呈内凹的圆弧面，以便于贴合膝盖部位，按摩构件2上贯穿有出药孔22，当挡板5打开时，出药孔22连通空腔14和按摩面21。

罩体3与储药构件1的侧壁紧密贴合，罩体3的顶部设有可开合的顶盖31，所述罩体3采用透明材质制成，便于观察储药构件1内的药量。