[实用新型]一种紫外光固化的硬化层及光学硬化膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学硬化膜，特别是涉及一种紫外光固化的硬化层及光学硬化膜。

背景技术

目前各种触摸屏产品，如智能手机、平板电脑、车载导航、数码相机等的应用越来越广泛。在这些设备显示屏的制造中要使用光学硬化膜，如ITO膜和防爆膜等；在使用过程中，这些设备的触摸屏要频繁和使用者接触，为防止屏幕的划伤、磨损和脏污，也要使用光学硬化膜来保护屏幕。这些应用的光学硬化膜一般由高透明的薄膜基材和涂布于其表面的透明硬化层组成。当光线进入硬化膜后，从硬化层上表面和下表面反射的光存在光程差而引起光的干涉。由于存在光的干涉，在某个特定的角度，观察者会看到屏幕上有彩虹纹，影响视觉效果。引起光程差的主要因素是：涂层的折射率与基材薄膜的折射率不一致；硬化涂层的厚度不均匀；硬化涂层的固有的表面粗糙度较高。

目前，解决彩虹纹的方案主要有：1、使涂层的折射率与基材薄膜的折射率一致或非常接近。但由于折射率属于物质的固有性能，很难找到刚好能匹配的树脂，既能满足需要的折射率，又能跟基材薄膜的附着力好，还能满足各项物理性能，如硬度，柔韧性，拉伸强度，透光率等性能。2、使涂层的厚度尽可能保证一致，因为在折射率不一致的情况下，涂层厚度偏差在纳米级就会产生彩虹纹现象，目前，受限于市场上通用的涂布机器精度和涂布条件所限制，用传统的涂布设备和涂布工艺很难控制到涂层的厚度偏差在纳米级别，这种控制涂层厚度的方式，只能在实验室进行，而对放量生产没有实际意义，所以通过现有的涂布设备和涂布工艺来控制涂布厚度，很难精确控制到理想的效果。3、改变硬化涂层的配方，以降低硬化涂层的表面粗糙度。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是：弥补上述现有技术的不足，提出一种紫外光固化的硬化层及光学硬化膜，以消除彩虹纹。

本实用新型的技术问题通过以下的技术方案予以解决：

一种紫外光固化的硬化层，包括硬化层基底和突起，所述突起均匀连续地形成在所述硬化层基底的表面上，并布满所述硬化层基底的表面，所述突起的最高点到所述硬化层基底的表面的高度为200-600nm，所述硬化层基底和突起的厚度总和为1-10μm。

优选地，所述突起为弧形。

优选地，所述硬化层基底和突起的厚度总和为6-8μm。

优选地，所述硬化层基底和突起通过紫外光固化一体形成。

一种紫外光固化的光学硬化膜，包括透明基材和涂布于所述透明基材上表面的所述的紫外光固化的硬化层。

优选地，所述透明基材为PET膜，所述PET膜包括PET基膜和形成在所述PET基膜上的预处理层，所述紫外光固化的硬化层涂布在所述预处理层上。

本实用新型与现有技术对比的有益效果是：

本实用新型采用与现有技术完全不同的思路来解决彩虹纹的问题，不改变硬化层的表面粗糙度，而通过改变硬化层的结构，在硬化层基底上形成均匀连续的布满整个硬化层基底表面的突起，使光线在硬化层的表面产生散射而消除光线的干涉现象，从而使涂层表面没有泛彩现象，表面彩虹纹不能被观察到；将突起的高度限定为200-600nm之间，足以使该硬化层目视表面是平整的，无明显凹凸，同时又能达到消除彩虹纹的目的。

附图说明

图1是本实用新型一优选实施例中的紫外光固化的硬化层的结构示意图；

图2是本实用新型另一优选实施例中的紫外光固化的光学硬化膜的结构示意图。

具体实施方式

下面对照附图并结合优选的实施方式对本实用新型作进一步说明。

本实用新型提供一种紫外光固化的硬化层，在一优选实施例中，如图1所示，该硬化层包括硬化层基底1和突起2，所述突起2均匀连续地形成在所述硬化层基底1的表面上，并布满所述硬化层基底1的表面，所述突起2的最高点到所述硬化层基底1的表面的高度为200-600nm，在本例中，突起2是弧形，高度为200nm，所述硬化层基底和突起的厚度总和为1-10μm，优选为6-8μm，在本例中厚度总和为6μm。