[实用新型]一种可阻隔X射线泄露的真空法兰有效
申请号: | 201420671898.0 | 申请日: | 2014-11-12 |
公开(公告)号: | CN204327684U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 张黎源;张晓卫 | 申请(专利权)人: | 核工业理化工程研究院 |
主分类号: | F16B7/18 | 分类号: | F16B7/18 |
代理公司: | 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 | 代理人: | 胡恩河 |
地址: | 300180 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阻隔 射线 泄露 真空 法兰 | ||
1.一种可阻隔X射线泄露的真空法兰,包括通过螺栓(5)连接的左法兰(1)和右法兰(2),左法兰(1)和右法兰(2)中心均形成通孔,且左法兰(1)通孔左侧和右法兰(2)通孔右侧均连接有管道(4),其特征在于:所述左法兰(1)相对右法兰(2)的一侧自内向外分别形成凸台(6)和左法兰散射槽(8),所述右法兰(2相对左法兰(1)的一侧自内向外分别形成密封圈槽(10)、凹台(7)和右法兰散射槽(9),其中凹台(7)与凸台(6)相对应,右法兰散射槽(9)与左法兰散射槽(8)相对应;密封圈(3)置于密封圈槽(10)内,且与密封圈槽(10)紧配合。
2.根据权利要求1所述的一种可阻隔X射线泄露的真空法兰,其特征在于:所述左法兰(1)和右法兰(2)之间的间隙S为1~5mm。
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