[实用新型]一种可阻隔X射线泄露的真空法兰有效

专利信息
申请号: 201420671898.0 申请日: 2014-11-12
公开(公告)号: CN204327684U 公开(公告)日: 2015-05-13
发明(设计)人: 张黎源;张晓卫 申请(专利权)人: 核工业理化工程研究院
主分类号: F16B7/18 分类号: F16B7/18
代理公司: 天津市宗欣专利商标代理有限公司 12103 代理人: 胡恩河
地址: 300180 *** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阻隔 射线 泄露 真空 法兰
【权利要求书】:

1.一种可阻隔X射线泄露的真空法兰,包括通过螺栓(5)连接的左法兰(1)和右法兰(2),左法兰(1)和右法兰(2)中心均形成通孔,且左法兰(1)通孔左侧和右法兰(2)通孔右侧均连接有管道(4),其特征在于:所述左法兰(1)相对右法兰(2)的一侧自内向外分别形成凸台(6)和左法兰散射槽(8),所述右法兰(2相对左法兰(1)的一侧自内向外分别形成密封圈槽(10)、凹台(7)和右法兰散射槽(9),其中凹台(7)与凸台(6)相对应,右法兰散射槽(9)与左法兰散射槽(8)相对应;密封圈(3)置于密封圈槽(10)内,且与密封圈槽(10)紧配合。

2.根据权利要求1所述的一种可阻隔X射线泄露的真空法兰,其特征在于:所述左法兰(1)和右法兰(2)之间的间隙S为1~5mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核工业理化工程研究院,未经核工业理化工程研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420671898.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top