[实用新型]一种水电站用高压水阀有效

专利信息
申请号: 201420679753.5 申请日: 2014-11-14
公开(公告)号: CN204253890U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 吴文福 申请(专利权)人: 凯阀科技(厦门)有限公司
主分类号: F16K1/00 分类号: F16K1/00;F16K1/36;F16K1/32
代理公司: 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 代理人: 陈芳
地址: 361000 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 水电站 高压 水阀
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种水电站用高压水阀,按国际专利分类表(IPC)划分属于控制阀技术领域。

背景技术

 高压阀,其应用在高压流体上并能有效控制高压流体的流动与断流,而现有的高压阀只能使流体断流或流通,无法实现流体流量的控制,进而不能适应各种需求。

由此,本发明人考虑对现有的高压阀进行改进,本案由此产生。

实用新型内容

 针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种水电站用高压水阀,其采用多档为的定位机构实现阀芯与第一通孔之间的配合,进而令阀芯能有效控制通孔直径,从而实现控制流体流量的目的。

为达到上述目的,本实用新型是通过以下技术方案实现的:

一种水电站用高压水阀,该高压水阀包括由升降机构带动实现升降的阀芯及二通阀体,所述二通阀体两端具有呈高低分布的第一通孔及第二通孔;所述阀芯穿过二通阀体上端开口并与位于高处的第一通孔配合实现开、关控制;所述二通阀体的通道内设置有阻挡环及定位机构。

进一步,所述阀芯为花瓣状。

进一步,所述阻挡环位为二通阀体上端开口处边沿向内延伸形成能阻挡阀芯抽出的限位结构。

进一步,所述阻挡环下端面与阀芯接触并实现阻挡,该阻挡环下端面上设置有缓冲垫片,从而形成阀芯上升后与阻挡环接触的缓冲结构。

进一步,所述定位机构密封凸环及密封圈,所述密封圈嵌设在阀芯周边,且该密封圈具有凹槽;所述密封凸起数量为多个且每个密封凸起均嵌设在二通阀体通道内;所述密封圈上凹槽能与每个密封凸起配合形成档位式调节定位结构。

进一步,所述升降机构包括支架、升降杆、转盘,所述支架固定在二通阀体上端开口处形成支撑转盘、升降杆的结构;所述升降杆与阀芯连接,该升降杆上端与转盘连接,形成与阀芯的连接结构,从而实现旋转升降。

进一步,所述升降杆上还设置有夹持结构及导向结构,所述夹持结构包括连板及两夹持杆,所述两夹持杆分别置于升降杆两侧并通过连接板连接实现对升降杆的夹持;所述导向结构为一固定在升降杆上的导向块。

进一步,所述二通阀体上还设置有多个用于支撑阀体的支撑片。

进一步,所述二通阀体的内腔壁上喷涂有防锈层,而该防锈层可为现有市面上应用于流体防锈、防腐蚀上的材料喷涂而成。

进一步,所述二通阀体的内腔壁上还设置有耐磨层,所述耐磨层为现有市面上应用于流体防磨损的材料喷涂而成,进而所述耐磨层与前述防锈层的喷涂的前后次序均可,不进行限定。

与现有技术相比较,本实用新型的优点:

本实用新型采用具有凹陷的密封圈与多个密封凸环配合形成阀芯在阀体通道内升降运动的档位结构,从而控制第一通孔的内径,进而实现对流体流量的控制,拓宽其使用范围。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图;

图2是图1剖面图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明:

实施例:请参阅图1所示,一种水电站用高压水阀,该高压水阀包括由升降机构3带动实现升降的阀芯1及二通阀体2,所述二通阀体2上还设置有多个用于支撑阀体的支撑片4,所述二通阀体2两端具有呈高低分布的第一通孔21及第二通孔22;所述阀芯1穿过二通阀体2上端开口并与位于高处的第一通孔21配合实现开、关控制;所述二通阀体2的通道内设置有阻挡环5及定位机构6。

前述阻挡环5位为二通阀体1上端开口处边沿向内延伸形成能阻挡阀芯1抽出的限位结构,阻挡环5下端面与阀芯接触并实现阻挡,该阻挡环5下端面上设置有缓冲垫片51,从而形成阀芯1上升后与阻挡环5接触的缓冲结构。

前述定位机构6密封凸环61及密封圈62,所述密封圈62嵌设在阀芯1周边,且该密封圈62具有凹槽;所述密封凸起61数量为多个且每个密封凸起61均嵌设在二通阀体2通道内;所述密封圈上62凹槽能与每个密封凸起61配合形成档位式调节定位结构。

前述升降机构3包括支架31、升降杆32、转盘33,所述支架31固定在二通阀体2上端开口处形成支撑转盘33、升降杆32的结构;所述升降杆32与阀芯1连接,该升降杆32上端与转盘33连接,形成与阀芯1的连接结构,从而实现旋转升降。

前述升降杆33上还设置有夹持结构7及导向结构8,所述夹持结构7包括连板及两夹持杆,所述两夹持杆分别置于升降杆两侧并通过连接板连接实现对升降杆的夹持;所述导向结构8为一固定在升降杆上的导向块。

以上所记载,仅为利用本创作技术内容的实施例,任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化,皆属本创作主张的专利范围,而不限于实施例所揭示者。

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