[实用新型]离子注入均匀性调整装置以及离子注入装置

权利要求书

1.一种离子注入均匀性调整装置，其特征在于，包括：反馈控制系统、与所述反馈控制系统电连接的驱动装置、及由所述驱动装置根据所述反馈控制系统的反馈信息驱动从而使得基板相对离子束发生倾斜的基板夹持装置。

2.如权利要求1所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述基板夹持装置包括横向支架以及与所述横向支架连接的竖向支架，所述横向支架以及竖向支架上均设置有多个固定夹。

3.如权利要求2所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述横向支架与所述竖向支架固定连接形成一“L”型结构。

4.如权利要求2所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述驱动装置为电机，所述电机通过设置的传动轴与所述横向支架连接。

5.如权利要求2所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述驱动装置为电机，所述电机通过设置的传动轴与所述竖向支架连接。

6.如权利要求1至5中任意一项所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述离子注入均匀性调整装置还包括移动底座，所述驱动装置固定于所述移动底座上。

7.如权利要求1至5中任意一项所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述反馈控制系统包括法拉第杯组以及与所述法拉第杯组连接的控制单元，所述驱动装置与所述控制单元连接。

8.如权利要求7所述的离子注入均匀性调整装置，其特征在于，所述法拉第杯组由若干竖直均匀排列的法拉第杯组成。

9.一种离子注入装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任意一项所述的离子注入均匀性调整装置。

10.如权利要求9所述的离子注入装置，其特征在于，还包括离子源和束流传输系统。