[实用新型]一种匀光结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及匀光技术领域，尤其涉及一种匀光结构。

背景技术

在激光照明系统中，常用的匀光器件包括复眼透镜、扩散板(diffuser)和衍射光学元件(DOE)等，这些匀光器件的表面均设计有特殊凸起的不平整的图案结构，入射光束照射到上述图案结构后发生折射、散射或衍射，被分割成不同传播方向、角度或相位的子光束，这些子光束进行叠加消除其微小不均匀性，从而实现匀光。

在匀光过程中，部分光能会被反射损失掉，为了减少反射损失，通常需要对匀光器件的表面进行镀膜处理，镀膜一般采用蒸镀工艺或者溅射镀膜工艺，但是，由于匀光器件的表面有不平整的图案结构，使得镀膜相当困难，尤其表面曲率较大时，镀膜更是困难。

因此，对匀光器件不平整的图案结构或表面难以直接镀膜的图案结构上进行镀膜，以减少反射损失、增强透射光的能量，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种匀光结构，以解决现有技术中在匀光器件表面不平整的图案结构上镀膜困难的问题。。

为解决上述问题，本实用新型实施例提供了如下技术方案：

一种匀光结构，包括：第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。

优选的，还包括：所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二增透膜。

优选的，所述第一介质层为胶水介质层，所述第一介质层和第一增透膜之间设有第二基板。

优选的，所述第一图案结构为胶水图案层。

优选的，所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二图案结构，所述第二图案结构包括多个微结构；

所述第二图案结构表面设有第二介质层，所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面为平面；

所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面设有第二增透膜。

优选的，所述第二介质层为胶水介质层，所述第二介质层和第二增透膜之间设有第三基板。

优选的，还包括：第三图案结构，所述第三图案结构包括多个微结构，其中，第三图案结构与第一介质层的胶水介质层接触的一面为微结构面，第三图案结构背离第一介质层的胶水介质层的一面为平面。

优选的，所述第三图案结构为胶水图案层。

优选的，所述第一基板和第二基板为PC板，所述第一图案结构为散射粉层。

优选的，所述第一介质层为硅胶介质层、UV胶介质层或光学环氧胶介质层。

优选的，所述胶水图案层为硅胶图案层、UV胶图案层或光学环氧胶图案层。

优选的，胶水图案层的厚度不大于100μm。

优选的，所述第一基板和第二基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。

优选的，所述第三基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。

优选的，所述胶水图案层的表面为多个弧形面构成的曲面，或多个锯齿构成的锯齿面，或多个台阶构成的阶梯面。

与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点：

本实用新型实施例所提供的匀光结构，包括：第一基板；位于所述第一基板表面的第一图案结构，所述第一图案结构包括多个微结构，用于对照射到其表面的入射光束进行匀光；位于所述第一图案结构表面的第一介质层，所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构，所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面；所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。由此可见，本实用新型在难以镀膜的不平整第一图案结构上涂覆第一介质层，由于第一介质层背离第一图案结构的一面为平面，因而可以在该平面上进行镀膜，解决了由于匀光器件表面不平整而导致镀膜困难的问题；而且，在第一介质层上镀第一增透膜，根据等厚干涉原理，第一增透膜两个表面的反射光是相干的，会发生干涉相消，从而会使反射光减弱或消失，反射光能量减少，反射光和透射光的总能量等于入射光能量，根据能量守恒定律，反射光能量减少，就会使得透射光的能量增强。

附图说明