[实用新型]一种用于气体分离膜组件的气体稳流分配器有效
申请号: | 201420686823.X | 申请日: | 2014-11-17 |
公开(公告)号: | CN204247037U | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 卫旺;仓蓉;姜冬青 | 申请(专利权)人: | 江苏汇维特新材料科技有限公司 |
主分类号: | B01D53/22 | 分类号: | B01D53/22 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 211103 江苏省南京市麒*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 气体 分离 组件 分配器 | ||
技术领域
本发明属于化工设备领域,尤其涉及一种用于气体分离膜组件的气体稳流分配器。
背景技术
膜分离技术是指在分子水平上不同粒径分子的混合物在通过半透膜时,实现选择性分离的技术,半透膜又称分离膜或滤膜,膜壁布满小孔,根据孔径大小可以分为:微滤膜(MF)、超滤膜(UF)、纳滤膜(NF)、反渗透膜(RO)等,膜分离都采用错流过滤方式。
膜分离技术用于VOCS(挥发性有机化合物)回收上的优点是投资费用低、分离因子大、分离效果好,即净化效果好,而且膜法净化操作简单、控制方便、操作弹性大;但是膜组件内部的气体仍然存在分布不均匀,气体流速过快,导致膜面积不能充分利用,渗透侧的有机蒸汽富集倍数低。
因此,急需一种用于气体分离膜组件的气体稳流分配器来克服以上问题。
发明内容
本发明的目的是提供了一种用于气体分离膜组件的气体稳流分配器,以解决现有技术中气体进膜流速大,气体不稳定,停留时间短,分离效率低的问题。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种用于气体分离膜组件的气体稳流分配器,包括壳体,所述壳体内设置有上下平行的多孔气流分布板和多孔板,多孔气流分布板下侧连接有管式喷射器,管式喷射器内设置有螺旋导流板。
进一步的,所述壳体内壁上多孔气流分布板下设置有第一支撑板。
进一步的,所述壳体内壁上多孔板下设置有第二支撑板。
进一步的,所述多孔气流分布板为厚度均匀的圆型多孔板。
进一步的,所述多孔气流分布板的孔上焊接有管式喷射器。
进一步的,所述管式喷射器竖直设置。
进一步的,所述管式喷射器的底部和靠近底部的侧壁上开有小孔。
进一步的,所述多孔板上设置有若干圆孔,圆孔沿着半径由圆心向圆周逐渐缩小,且分布均匀。
进一步的,所述壳体下端通过法兰与膜组件相接。
进一步的,所述壳体可以连接至少1个膜组件,膜组件的连接形式可以是串联或并联。
本发明的有益效果:本实用新型通过改变多孔板的开孔率,开孔大小,管式喷射器的结构、管式喷射器的布置方式、壳体的形式和大小来降低稳定进膜组件的气速,使气体能与膜充分接触、延长了气体在膜组件内的停留时间,同时防止了浓差极化的产生;膜组件内部的气体分布均匀,气体进膜流速慢,气体稳定,停留时间长,膜面积充分利用,渗透侧的有机蒸汽富集倍数高,分离效率高。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的局部放大图;
图3是本实用新型的使用状态图;
其中:1-壳体,2-第一支撑板,3-第二支撑板,4-多孔气流分布板,5-管式喷射器,6-螺旋导流板,7-多孔板,8-膜组件,9-法兰。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
一种用于气体分离膜组件的气体稳流分配器,包括壳体,所述壳体1内设置有上下平行的多孔气流分布板4和多孔板7,多孔气流分布板4下侧连接有管式喷射器5,管式喷射器5内设置有螺旋导流板6。
所述壳体1内壁上多孔气流分布板4下设置有第一支撑板2,拆卸方便。
所述壳体1内壁上多孔板7下设置有第二支撑板3,拆卸方便。
所述多孔气流分布板4为厚度均匀的圆型多孔板。
所述多孔气流分布板4的孔上焊接有管式喷射器5。
所述管式喷射器5竖直设置。
所述管式喷射器5的底部和靠近底部的侧壁上开有小孔。
所述多孔板7上设置有若干圆孔,圆孔沿着半径由圆心向圆周逐渐缩小,且分布均匀。
所述壳体1下端通过法兰9与膜组件8相接。
壳体1可以连接至少1个膜组件,膜组件8的连接形式可以是串联或并联。
多孔气流分布板4上开孔,开孔率和开孔大小可由流体力学计算得到。
本实用新型通过改变多孔板的开孔率,开孔大小,管式喷射器的结构、管式喷射器的布置方式、壳体的形式和大小来降低稳定进膜组件的气速,使气体能与膜充分接触、延长了气体在膜组件内的停留时间,同时防止了浓差极化的产生;膜组件内部的气体分布均匀,气体进膜流速慢,气体稳定,停留时间长,膜面积充分利用,渗透侧的有机蒸汽富集倍数高,分离效率高。
上述虽然结合实施例对本发明的具体实施方式进行了描述,但并非对本发明保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本发明的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性的劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围之内。
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