[实用新型]一种新型LED吸顶灯有效
申请号: | 201420702590.8 | 申请日: | 2014-11-21 |
公开(公告)号: | CN204372719U | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 高远 | 申请(专利权)人: | 福建奥尔锐光电科技有限公司 |
主分类号: | F21S8/04 | 分类号: | F21S8/04;F21V3/04;F21V29/85;F21V21/096;F21Y101/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350000 福建省福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 led 吸顶灯 | ||
技术领域
本实用新型涉及照明领域,特别是一种新型LED吸顶灯。
背景技术
传统的吸顶灯多为圆形,发光角度小,并且外观不够美观。另外安装时需要先断电,否则在安装过程中存在安全隐患,并且由于灯带及其配套的驱动电路板各自固定于底座上,出现问题需要维修时,维修和安装过程繁琐。除此之外,以往的吸顶灯的磁柱多为两个,吸附能力不够强,且底板散热性能不好。
发明内容
有鉴于此,本实用新型的目的是提供一种新型LED吸顶灯,安装方便安全,透光率高且能够大角度发光,并且散热性能好。
本实用新型采用以下方案实现:一种新型LED吸顶灯,其特征在于:包括一正六边环形底板,且该底板的其中一边向内侧延伸一用于设置驱动电路板的延伸部;所述正六边环形底板上罩设有一弧形光扩散磨砂灯罩;所述灯罩内设置有一LED灯组,所述驱动电路板用于驱动所述的LED灯组。
进一步地,所述延伸部上对应的罩体设置有一凹槽,所述凹槽内开设有两个孔洞,以裸露出所述驱动电路板的两供电端,该供电端可直接与电源接口相连,更加安全可靠美观。
进一步地,所述的底板为辐射式导热塑料。
进一步地,所述的底板背面设置有三个磁柱,所述的磁柱分别位于正六边形相互间隔的三个顶点上。
进一步地,所述的正六边环形底板外径D为150mm,内径d为115mm。
进一步地,LED灯组是一设置在所述底板上的LED灯带。
较佳地,所述的LED灯带通过卡柱固定在底板上。
特别的,所述的驱动电路采用美国DU8612芯片与进口IC、电磁兼容性好,精确度高,并具有超强的短路保护功能,防止电源出现意外情况。
其中,所述的LED灯带上采用的LED灯珠为5730高亮台湾灯珠,其亮度相当于28-35W的节能灯。
本实用新型使用弧形磨砂灯罩,能够270°大角度发光,其正六边形的结构美观大方,并且灯带与驱动电路板均被灯罩和底板全绝缘包裹,安全性能高。另外底板采用辐射式导热塑料,散热性能高。并且底板上设置有3个强力磁柱,吸附性能得到了很大的提高,可直接吸附在安装底座上,安装方便简单。
附图说明
图1为本实用新型的俯视图。
图2为本实用新型的上视图及其剖面图。
图3为本实用新型的驱动电路图。
主要组件符号说明]
图中:1为底板,2为延伸部,3为弧形光扩散灯罩,4为凹槽,5为孔洞,6为磁柱,7为LED灯带,8为卡柱。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型做进一步说明。
如图1与图2所示,本实施例提供了一种新型LED吸顶灯,其特征在于:包括一正六边环形底板1,且该底板1的其中一边向内侧延伸一用于设置驱动电路板的延伸部2;所述正六边环形底板1上罩设有一弧形光扩散磨砂灯罩3;所述灯罩3内设置有一LED灯组,所述驱动电路板用于驱动所述的LED灯组。
在本实施例中,所述延伸部2上对应的罩体设置有一凹槽4,所述凹槽4内开设有两个孔洞5,以裸露出所述驱动电路板的两供电端,该供电端可直接与电源接口相连,更加安全可靠美观。
在本实施例中,所述的底板1为辐射式导热塑料。
在本实施例中,所述的底板1背面设置有三个磁柱6,所述的磁柱6分别位于正六边形相互间隔的三个顶点上。
在本实施例中,所述的正六边环形底板外径D为150mm,内径d为115mm。
在本实施例中,LED灯组是一设置在所述底板上的LED灯带7。较佳地,所述的LED灯带7通过卡柱8固定在底板1上。
其中,所述的LED灯带7上采用的LED灯珠为5730高亮台湾灯珠,其亮度相当于28-35W的节能灯。
本实施例中所述的驱动电路如图3所示,电路中采用美国DU8612芯片及其连接电路,精确度高,并具有超强的短路保护功能。
综上所述,本实用新型使用弧形磨砂灯罩,能够270°大角度发光,其正六边环形的结构美观大方,并且灯带与驱动电路板均被灯罩和底板全绝缘包裹,安全性能高。另外底板采用辐射式导热塑料,散热性能高。并且底板上设置有3个强力磁柱,吸附性能得到了很大的提高,可直接吸附在安装底座上,安装方便简单。
值得一提的是,以上仅为本实用新型实施例中一个较佳的实施方案。但是,本实用新型并不限于上述实施方案,凡按本实用新型方案所做的任何均等变化和修饰,所产生的功能作用未超出本方案的范围时,均属于本实用新型的保护范围。
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