[实用新型]离子镀膜设备有效
| 申请号： | 201420729936.3 | 申请日： | 2014-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN204265830U | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 石芳萍 | 申请（专利权）人： | 深圳市炬宇泰科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子镀膜设备，包括镀膜炉（1）和设置在镀膜炉内的镀膜平台（2），其特征在于：所述镀膜炉（1）的外围设置有加热保温炉（3），加热保温炉（3）的顶部设置有由动力装置启闭的外开合顶窗（4），镀膜炉（1）的顶部设置有由动力装置启闭的内开合顶窗（5），所述镀膜炉（1）内设置有能够发射等离子体的离子源（6），玻璃片能够从外开合顶窗（4）、内合顶窗（5）送入到镀膜平台（2）上，所述镀膜炉（1）内还设置有位于镀膜平台四周的膜料（7），所述离子源（6）能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上；所述加热保温炉（3）内设置有加热盘管（8）。
2.按照权利要求1所述的离子镀膜设备，其特征在于：所述离子源（6）与离子源电源连接。
3.按照权利要求1所述的离子镀膜设备，其特征在于：所述外开合顶窗（4）由位于加热保温炉（3）顶部一侧的第一气缸（9）驱动，所述内开合顶窗（5）由位于镀膜炉（1）顶部一侧的第二气缸（10）驱动。
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