[实用新型]温度测量装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统，具体涉及一种用于聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室的温度测量装置。

背景技术

聚对二甲苯是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲结构的聚合物薄膜的统称，具有极其优良的电性能、化学稳定性和生物相容性，在微电子机械系统、电子元器件、医疗器材等领域有着广泛的应用。

聚对二甲苯薄膜均采用气相沉积法(CVD工艺)制造，工艺如下：对二甲苯二聚体在180℃下升华为气体，经过高温700℃裂解为对二甲苯单体，再导入内部沉积装置中在室温下沉积聚合于产品表面。这种工艺使得聚对二甲苯薄膜具有无残余应力、完全同形、高度均匀、渗透力强等优势。

制造工艺中，原料气的输送速度对沉积膜的质量非常关键，而原料气的输送速度通过蒸发温度来控制。因此在聚对二甲苯薄膜的制造过程中，需要准确测量蒸发室的蒸发温度。然而，在对蒸发室的蒸发温度进行测量时，有诸多因素会影响测量结果，例如漏电流、感应电流、探头接触程度及气流、温湿度等。因此，在对蒸发室的蒸发温度进行测量的过程中，如何避免外界因素对测量结果的影响显得尤其重要，这对测量装置的稳定性和可靠性都提出了非常高的要求。

聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室的蒸发温度一般采用热电偶测量，热电偶为一种感温元件，它直接测量温度，并把温度信号转换成热电动势信号,通过电气仪表转换成被测介质的温度。然而，目前聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室的温度测量装置为：在蒸发室加热圈上开设一长槽，将热电偶放入槽内用箍圈固定。这会导致以下问题：热电偶探头与待测部件间的接触紧密程度很难保证，主机内部的气流、温湿度变化均会导致测量值波动，探头与加热圈距离太近，加热圈工作时产生感应电流，加热圈漏电及热电偶连接的电子仪表漏电流都会导致热电偶的电信号波动从而影响测量结果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种用于聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室的温度测量装置，起能解决聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室的温度测量结果不稳定，易受环境因素影响的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种温度测量装置，用于测量聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室的温度，所述温度测量装置包括壳体、热电偶以及接地结构，所述壳体设有中心通孔，所述热电偶固定容纳于所述壳体的中心通孔内并且与所述蒸发室的外表面接触，所述壳体的一端设有圆弧面，所述圆弧面的弧度与所述蒸发室外表面的弧度相同，且所述接地结构的一端与所述热电偶电连接，另一端接地。

较佳地，所述壳体的内径比所述热电偶的外径大1-5mm。

较佳地，所述壳体的内径比所述热电偶的外径大2-3mm。

较佳地，所述壳体与所述热电偶螺纹连接。

较佳地，所述接地结构包括设置于所述壳体上的螺纹孔、安装于该螺纹孔中的螺钉以及连接于该螺钉上的导线。

较佳地，其特征在于，所述壳体呈圆筒形。

本实用新型的有益效果是：

1、壳体与测量面之间、热电偶与壳体之间接触紧密，无间隙，不会松动，避免了测量位置变化的影响。

2、热电偶探头被固定件整体包裹，确保测量值不受气流、温湿度等环境影响。

2、壳体接地后可以避免漏电流、感应电流干扰热电偶引起测量波动。

附图说明

图1是本实用新型温度测量装置的壳体剖视图。

图2是本实用新型温度测量装置的热电偶主视图。

图3是本实用新型温度测量装置的剖视图。

图4是本实用新型温度测量装置安装于蒸发室的示意图。

具体实施方式

以下将结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细说明，以便更清楚理解本实用新型的目的、特点和优点。应理解的是，附图所示的实施例并不是对本实用新型范围的限制，而只是为了说明本实用新型技术方案的实质精神。

如图1、图4所示，用于聚对二甲苯真空卧式沉积系统蒸发室20的温度测量装置10包括壳体11、热电偶12、以及接地结构13。蒸发室20包括蒸发室加热圈21和裂解管22。其中，蒸发室加热圈21用来加热蒸发室20。温度测量装置10用来测量蒸发室20内聚对二甲苯气体的温度。

如图1至图3所示，壳体11具有左端110和右端111，其中左端110具有与蒸发室外表面弧度相同的弧面113，从而当壳体11安装到蒸发室后能够与壳体紧密接触。在本优选实施例中，壳体11呈圆筒状，然而本领域的技术人员可以理解，壳体11也可以为圆锥状、棱柱状等。