[实用新型]真空镀膜设备用离子源系统有效
| 申请号： | 201420741584.3 | 申请日： | 2014-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN204401096U | 公开（公告）日： | 2015-06-17 |
| 发明（设计）人： | 单永贤 | 申请（专利权）人： | 上海金科纳米涂层技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海天协和诚知识产权代理事务所 31216 | 代理人： | 张恒康 |
| 地址： | 200082 上海市虹*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 备用 离子源 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空镀膜设备用离子源系统，包括真空室，其特征在于：还包括转盘、基片、挡板、转轴、若干靶源、通气孔和电源；转盘位于真空室中心位置，其外部装有基片，挡板设于真空室内并通过转轴将其与转盘中心连接；靶源包括靶座和靶材，靶材设于靶座上部，靶材和通气孔间隔设于真空室的内壁四周；每个靶源通过单独的电源连接控制。
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