[实用新型]一种LVDT新型的线圈绕制结构

说明书

技术领域

本实用新型属于机械设计技术领域，涉及一种LVDT新型的线圈绕制结构。

背景技术

通常LVDT线位移传感器线性范围较小，线圈常规绕制结构磁场线性范围较小，因此为了得到较大的量程范围往往需要几十倍的线圈长度。在实际应用过程中，不能满足线位移传感器小型化、高精化的要求。

发明内容

本发明的目的：提出一种结构简单、线性范围大、可靠性高的LVDT新型的线圈绕制结构。

本发明的技术方案：一种LVDT新型的线圈绕制结构，其特征为：所述结构包括线圈组件、壳体4、底盖8、铁芯5、连杆6；线圈组件包括骨架3、初级线圈2、次级线圈Ⅰ1、次级线圈Ⅱ7组成；初级线圈2均匀分布在骨架3每个线槽内；次级线圈Ⅰ1、次级线圈Ⅱ7绕制在初级线圈2上，且次级线圈Ⅰ1、次级线圈Ⅱ7以骨架3轴向中心对称分布，每个线槽内绕制线圈匝数由内向外阶梯递增；壳体4通过两端挤压变形的收口方式与底盖8、骨架3紧固；铁芯5通过螺纹与连杆(6)连接，可在骨架3中心孔内自由移动。

本发明的优点：本实用新型通过阶梯递增线圈绕制结构使LVDT线位移传感器磁路均匀，线性范围更大，这样在相同外部尺寸条件下具有更大的量程。其结构简单可靠、性能优良。

附图说明：

图1是本实用新型一种LVDT新型的线圈绕制结构具体实施方式的剖视图；

其中，1-次级线圈Ⅰ、2-初级线圈、3-骨架、4-壳体、5-铁芯、6-连杆、7-次级线圈Ⅱ、8-底盖。

具体实施方式：

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做进一步详细说明。

参见图1，其为本实用新型一种LVDT新型的线圈绕制结构的一种具体实施方式。所述结构包括线圈组件、壳体4、底盖8、铁芯5、连杆6；线圈组件包括骨架3、初级线圈2、次级线圈Ⅰ1、次级线圈Ⅱ7组成；初级线圈2均匀分布在骨架3每个线槽内；次级线圈Ⅰ1、次级线圈Ⅱ7绕制在初级线圈2上，且次级线圈Ⅰ1、次级线圈Ⅱ7以骨架3轴向中心对称分布，每个线槽内绕制线圈匝数由内向外阶梯递增；壳体4通过两端挤压变形的收口方式与底盖8、骨架3紧固；铁芯5通过螺纹与连杆6连接，可在骨架3中心孔内自由移动。