[实用新型]复合式盖板结构

权利要求书

1.一种复合式盖板结构，其特征在于：包括：

第一盖板，具有相对的上表面、下表面及介于所述上表面与下表面之间的外侧面；

第二盖板，具有相对的上表面、下表面及介于所述上表面与下表面之间的外侧面，所述第二盖板还具有一开口；

第一接合层，位于所述第一盖板的下表面与所述第二盖板上表面之间；

一指纹识别模块，设置于所述第二盖板的开口内，及

一类钻碳层，设置于所述第一盖板上。

2.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述开口为自所述第二盖板的上表面至下表面形成的一通孔或自所述第二盖板的外侧面向内形成的一凹槽。

3.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述第一接合层在所述第二盖板的开口与所述第一盖板之间具有一让位口，所述复合式盖板结构还包括一第二接合层，设置于所述让位口内，且还位于所述指纹识别模块与所述第一盖板之间。

4.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：还包括一固定结构，位于所述指纹识别模块与所述第二盖板之间，以将所述指纹识别模块固定于所述第二盖板的开口中。

5.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：还包括一遮蔽层，设置于所述第一盖板的下表面，且在所述第一盖板上的垂直投影至少覆盖所述指纹识别模块在所述第一盖板上的垂直投影。

6.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：还包括一屏蔽结构位于所述第一盖板与所述第二盖板之间，且环绕于所述指纹识别模块的周围。

7.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：其中所述类钻碳层的厚度小于等于15nm。

8.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：更包括一疏水性层，所述疏水性层设置于所述类钻碳层相对所述第一盖板的另一侧面上。

9.根据权利要求8所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述疏水性层相对于所述类钻碳层的另一侧具有一接触角，所述接触角大于110度。

10.根据权利要求8所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述疏水性层的厚度介于5nm到30nm之间。

11.根据权利要求8所述的复合式盖板结构，其特征在于：更包括一中间层，所述中间层设置于所述类钻碳层与所述疏水性层之间。

12.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：更包括一附着层，所述附着层设置于所述第一盖板与所述类钻碳层之间，其中所述附着层为二氧化硅。

13.根据权利要求12所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述附着层的厚度介于5nm到10nm之间。

14.根据权利要求1所述的复合式盖板结构，其特征在于：更包括一抗反射膜，所述抗反射膜设置于所述第一盖板与所述类钻碳层之间。

15.根据权利要求14所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述抗反射膜包含复数第一抗反射层和数量对等的复数第二抗反射层，所述第二抗反射层的折射率小于所述第一抗反射层的折射率，且所述第一抗反射层与所述第二抗反射层系交错层叠。

16.根据权利要求15所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述第一抗反射膜的折射率大于1.6，所述第二抗反射膜的折射率小于1.55。

17.根据权利要求15所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述抗反射膜是由其中一第一抗反射层邻接于所述第一盖板，由其中一第二抗反射层邻接于所述类钻碳层。

18.根据权利要求15所述的复合式盖板结构，其特征在于：更包括一附着层，所述附着层设置于所述第一盖板与所述抗反射膜之间，且所述抗反射膜是由其中一第一抗反射层邻接于所述附着层，由其中一第二抗反射层邻接于所述类钻碳层。

19.根据权利要求15所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述第一抗反射层的材质为氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化钽、氮氧化硅或氮化硅，所述第二抗反射层的材质为氧化硅或氟化镁。

20.根据权利要求1至19任一所述的复合式盖板结构，其特征在于：所述第一盖板的厚度小于等于0.3毫米。