[实用新型]一种大外径高厚度磁环的平面多极磁化装置有效

专利信息
申请号: 201420759713.1 申请日: 2014-12-05
公开(公告)号: CN204257316U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 杨跃红;何震宇 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01F13/00 分类号: H01F13/00
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 322118 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 外径 厚度 平面 多极 磁化 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及磁性材料充磁相关技术领域,尤其是指一种大外径高厚度磁环的平面多极磁化装置。

背景技术

随着磁性材料的应用日益广泛,市场上要求充磁后多极永磁铁氧体磁环供货越来越多,其中有很多大外径高厚度的永磁铁氧体磁环,而且磁环要求充磁的磁极数量也越来越多。对该类大外径高厚度永磁铁氧体磁环产品进行磁化时,存在以下问题:

1、对大外径高厚度永磁铁氧体磁环进行饱和磁化后,从磁化装置表面取走极端困难。因为此类铁氧体磁环平面尺寸很大,且平面磁化极数较多,饱和磁化后铁氧体磁环与磁化装置之间由于磁场作用有强大的吸力。因此,铁氧体磁环在磁化装置表面取走时不仅费时费力,而且由于取走磁环时作用力较大,容易引起磁环损坏。这使得大外径高厚度永磁铁氧体磁环的充磁工序劳动强度大,生产效率低而且成品率也较低。

2、因磁化后永磁铁氧体磁环和磁化装置之间有强大的吸力,在抽拉磁环过程中,铁氧体磁环和磁化装置之间有较大的摩擦。而磁化装置大都采用工业纯铁制备,但工业纯铁硬度低较柔软,在经过一段时间的摩擦后,会引起磁化装置表面有较大的磨损,大大缩短了磁化装置的使用寿命。同时磁化装置表面各处的磨损不一样。在充磁大外径高厚度永磁铁氧体磁环产品时,磁环表面与充磁装置表面接触处形成一定的空隙,但是由于各处磨损不同,各空隙的间距也不一样,磁化时各磁极之间的磁阻不一样,容易引起各磁极的表磁数值差距较大。

实用新型内容

本实用新型是为了克服现有技术中存在上述的不足,提供了一种避免表面磨损且提高生产效率的大外径高厚度磁环的平面多极磁化装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种大外径高厚度磁环的平面多极磁化装置,包括基座,所述的基座上方设有充磁机构,所述的基座下部设有冷却装置,所述充磁机构的上端面上设有不导磁薄片。

选取一定厚度的不导磁薄片覆盖在磁化装置的充磁机构上表面,杜绝产品与磁化装置的直接接触,避免充磁机构表面的磨损,保证了永磁铁氧体磁环各磁极磁化时的一致性。饱和磁化后,铁氧体磁环从磁化装置覆盖的不导磁薄片表面抽拉取走,避免了充磁机构表面的磨损,大大延长了磁化装置的使用期限。

作为优选,所述的不导磁薄片由表面光洁且耐磨的不导磁材料制作而成。由于不导磁薄片光洁度高,摩擦系数小,产品与不导磁薄片之间的摩擦力远小于永磁铁氧体磁环与磁化装置表面之间的摩擦力,永磁铁氧体磁环抽拉取走变得较为容易、省时,大大降低了劳动强度,提高充磁的生产效率。

作为优选,所述的不导磁薄片为铜或不锈钢。

作为优选,所述的充磁机构包括若干铁芯和绕在铁芯上的磁化线圈,所述的铁芯和基座是一体成型的,所述基座的横截面为圆形,所述基座的上方中间设有圆形凹槽,所述的铁芯均匀分布在圆形凹槽的外边缘与基座上方的外边缘之间。由于磁化装置中增加了不导磁薄皮,使得磁化永磁铁氧体磁环时磁阻变大,而为了达到同样的充磁效果,则需要增大磁化线圈的线径和匝数,同时需要重新确认磁化线圈在充磁机构中的位置。

作为优选,所述的冷却装置包括冷却腔、冷却水、进水口和出水口,所述的冷却腔置于基座的下部中间处,所述的冷却水置于冷却腔内,所述的进水口置于冷却腔的上端,所述的出水口置于冷却腔的下端,所述的进水口与出水口分别置于基座的左右两侧。由于磁化装置中增加了不导磁薄皮,使得磁化铁氧体磁环时磁阻变大,而为了达到同样的充磁效果,需要增加充磁机构的充电电流,而更大的充电电流需要更好的散热,通过冷却装置来提高磁化装置水冷的冷却效果。

本实用新型的有益效果是:通过不导磁薄片杜绝了产品与磁化装置的直接接触,避免磁化装置表面的磨损,保证了永磁铁氧体磁环各磁极磁化时的一致性,大大延长了磁化装置的使用期限;同时产品抽拉取走变得较为容易、省时,大大降低了劳动强度,提高充磁的生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是充磁机构的结构示意图。

图中:1.基座,2.充磁机构,3.不导磁薄片,4.冷却腔,5.进水口,6.出水口,7.圆形凹槽,8.铁芯,9.磁化线圈。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步的描述。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于横店集团东磁股份有限公司,未经横店集团东磁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420759713.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top