[实用新型]一种光掩膜烘烤板架

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体生产设备，特别是涉及一种光掩膜烘烤板架。

背景技术

设计与工艺制造之间的接口是版图。版图是一组相互套合的图形，各层版图相应于不同的工艺步骤，每一层版图用不同的图案来表示。版图与所采用的制备工艺紧密相关。在计算机及其超大规模集成电路(Very Large Scale INTEGRATED Circuits，VLSI)设计系统上设计完成的集成电路版图只是一些图像和数据，当将设计结果送到工艺线上实验时，还必须经过一个重要的中间环节，即制版。

制版是通过图形发生器完成图形的缩小和重复。在设计完成集成电路的版图以后，设计者得到的是一组标准的制版数据，将这组数据传送给图形发生器(一种制版设备)，图形发生器(Pattern Generator，PG)根据数据，将设计的版图结果分层转移到光掩膜上。制版的目的就是产生一套分层的版图掩膜，为将来进行图形转移(即光刻)做准备。

光掩膜(Photo Mask)包含了整个硅片的芯片图形特征，其质量的高低直接影响着半导体产品的最终性能，因此，在生产过程中，必须保证光刻光掩膜的质量。

随着新型光刻胶的使用，对曝光后烘烤的温度均匀性要求很高。在传统的热风型烘箱内，光掩模烘烤板架一般包括平行于热风出口的两根固定轴，光掩膜则由这两根进行固定，使光掩膜具有图案的一面面向热风出口，以便于烘烤。

然而，这种针对热风型烘烤箱的烘烤架，在实际的使用过程中，不能完全满足整块掩模版的温度均匀性要求。

鉴于以上所述，提供一种能有效提高光掩膜温度均匀性的新型烘烤板架实属必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光掩膜烘烤板架，用于解决现有技术中针对热风型烘烤箱的烘烤架，在实际的使用过程中，不能满足整块掩模板的温度均匀性要求的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种光掩膜烘烤板架，所述光掩膜烘烤板架包括：

底座；

旋转装置，所述旋转装置将所述底座固定于烘烤设备底部，并通过所述旋转装置实现所述底座的旋转；

支架，至少包括一与所述底座固定连接的倾斜面板；以及

加热板，固定于所述支架的倾斜面板上。

作为本实用新型的光掩膜烘烤板架的一种优选方案，所述支架包括支撑板及倾斜面板，且所述支撑板、倾斜面板及底座间形成三角固定结构。

作为本实用新型的光掩膜烘烤板架的一种优选方案，所述旋转装置的旋转角度范围为30～90度。

作为本实用新型的光掩膜烘烤板架的一种优选方案，所述加热板两侧设置有固定件，所述加热板以夹持的方式固定于所述倾斜面板。

进一步地，所述固定件上设置有把手，通过该把手实现所述底座的旋转。

作为本实用新型的光掩膜烘烤板架的一种优选方案，所述加热板的形状为矩形。

进一步地，所述加热板的两侧设置有凹槽，以便于采用夹具实现光掩膜的放置及取出。

作为本实用新型的光掩膜烘烤板架的一种优选方案，所述加热板为不锈钢板。

如上所述，本实用新型提供一种光掩膜烘烤板架，所述光掩膜烘烤板架包括：底座；旋转装置，所述旋转装置将所述底座固定于烘烤设备底部，并通过所述旋转装置实现所述底座的旋转；支架，至少包括一与所述底座固定连接的倾斜面板；以及加热板，固定于所述支架的倾斜面板上。本实用新型由于采用了预热钢板，保证了掩模版刚放置时的初期温度，同时保证了在加热过程中整片掩模版的均匀受热。另外，本实用新型设计了转动托架，保证了光掩膜装卸的便利性。

附图说明

图1显示为本实用新型的光掩膜烘烤板架的主视结构示意图。

图2显示为本实用新型的光掩膜烘烤板架的下视结构示意图。

元件标号说明

10       底座

50       旋转装置

20       支架

201      支撑板

202      倾斜面板

30       加热板

40       固定件

401      把手

具体实施方式