[实用新型]一种低角度光源装置有效

专利信息
申请号: 201420767214.7 申请日: 2014-12-09
公开(公告)号: CN204285140U 公开(公告)日: 2015-04-22
发明(设计)人: 张家齐;郭进顺;郑杰仁 申请(专利权)人: 昆山万像光电有限公司
主分类号: F21S8/00 分类号: F21S8/00;F21V19/00;F21V23/04;F21Y101/02
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 角度 光源 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及高精度非接触式影像量測系统,尤其涉及一种利用低角度光源搭配影像量測技術使特殊物件表面特徵成像更明顯,邊界更加銳利,進而量測物件相關的形位公差尺寸。

背景技术

目前,在工业领域影像量测系统中,因搭配的镜头关系主要采用的光源装置聚焦距离约90mm,如图一(专利公开号:CN202927627U),此聚焦距离针对某类特殊工件的影像量测成像不佳,边界锐利度不够,造成量测误判概率高,较特殊的工件包含:PCB金手指、半导体制程细小线宽等等。因此,本实用新型提出一新型低角度光源装置,利用低角度光源投射工件表面,使得工件上的图案边界成像锐利,增加影像量测系统的可靠度。

实用新型内容

本实用新型是为了解决上述不足,是一种利用低角度光源装置来解决表面图案厚度极薄的工件成像问题。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现:一种低角度光源装置,包括发光二极管灯泡、可挠性电路板,低角度光源装置加工件,其特征在于:所述的发光二极管灯炮多个垂直焊接在可挠性电路板上,可挠性电路板固定于低角度光源装置加工件上,所述的低角度光源装置加工件由第一环、第二环和灯座组成,其中第一环与低角度光源装置加工件的中心轴线的夹角为15°-35°,第二环与低角度光源装置加工件的中心轴线的夹角为15°-35°,所述的第 一环直径较第二环直径大1-2cm,所述的第一环较第二环的平面低,第一环与中心轴线夹角较第二环的夹角略大,以保证第一环与第二环安装发光二极管灯泡后的焦点一致,可挠性电路板固定于低角度光源装置加工件的第一环与第二环面,形成一低角度光源装置,使发光二极管灯炮表面到量测工件表面的垂直距离小于45mm。

优选的,所述的低角度光源装置加工件包含至少两环八区255阶可程控光源装置。

优选的,所述的发光二极管灯泡可是白光灯源、RGB三原色光灯源,或者由RGB三原色光所调制出来的光源。

本实用新型与现有技术相比的优点是:本实用新型低角度光源装置,对于工件上较薄厚度的图案可以投射出相对于传统光源较好的影像效果,而且针对不同的检测材料、相对的小区域和长距离的测量检测物的位移量时,也可以得到清晰的影像效果,相应的增加了量测系统的精确度。

附图说明

图1为现有技术的结构示意图。

图2是本实用新型结构示意图。

图3为图2的B-B剖面示意图。

其中,1—低角度光源装置加工件;2—发光二极管灯泡;3—可挠性电路板;11—第一环;12—第二环;13—灯座;14—中心轴线。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进一步详述:

如图2和图3所示,本实用新型提供的一种低角度光源装置,包括发光二极管灯泡2、可挠性电路板3,低角度光源装置加工件1,其特征在于:所述的 发光二极管灯炮2多个垂直焊接在可挠性电路板3上,可挠性电路板3固定于低角度光源装置加工件1上,所述的低角度光源装置加工件1由第一环11、第二环12和灯座13组成,其中第一环11与低角度光源装置加工件1的中心轴线14的夹角为15°-35°,第二环12与中心轴线14的夹角为15°-35°,所述的第一环11直径较第二环12直径大2-5mm,所述的第一环11较第二环12的平面低,第一环11与中心轴线13夹角较第二环的夹角略大,以保证第一环11与第二环12安装发光二极管灯泡2后的焦点一致,可挠性电路板3固定于低角度光源装置加工件1的第一环11与第二环12面,形成一低角度光源装置,使发光二极管灯炮2表面到量测工件表面的垂直距离小于45mm。

优选的,所述的低角度光源装置加工件1包含至少两环八区255阶可程控光源装置。

优选的,所述的发光二极管灯泡2可是白光灯源、RGB三原色光灯源,或者由RGB三原色光所调制出来的光源。

下面结合一个实施例对本实用新型做进一步说明:

本实用新型低角度光源装置,对于工件上较薄厚度的图案将可以投射出相对于传统光源较好的影像效果,而且可针对不同的检测材料,相对的小区域和长距离的测量检测物的位移量时,也可以得到清晰的影像效果,相应的增加了量测系统的精确度。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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