[实用新型]光刻胶桶有效

专利信息
申请号: 201420797238.7 申请日: 2014-12-16
公开(公告)号: CN204323945U 公开(公告)日: 2015-05-13
发明(设计)人: 崔相玉;魏明德;金惠东;金度亨 申请(专利权)人: 徐州同鑫光电科技有限公司
主分类号: B65D47/18 分类号: B65D47/18;B65D25/02
代理公司: 徐州支点知识产权代理事务所(普通合伙) 32244 代理人: 刘新合
地址: 221000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光刻
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种光刻胶桶,具体是能提高光刻胶利用率的光刻胶桶。

背景技术

半导体制造领域,为维持企业市场竞争力,生产高品质、低成本的产品尤为重要。光刻胶单价偏高,在整个成本核算中,占比例较重。提高光刻胶利用率,为降本增效,提升企业竞争力的有效途径。

一般半导体工序中,光刻胶通过引流管实现垂直方向的流动,但光刻胶桶底为平底,必然会导致部分光刻胶溶液残留于桶底。为了解决上述问题,可以尝试将光刻胶桶倾斜放置,但胶桶存在倾倒隐患,不能从根本上解决问题。

实用新型内容

针对上述现有技术存在的问题,本实用新型提供一种光刻胶桶,降低光刻胶残余量,提高光刻胶利用率,降低生产成本。

为了实现上述目的,本一种光刻胶桶,包括桶口、桶壁和桶底,构成盛装光刻胶的腔体,所述桶口处设置引流管,所述引流管吸取腔体内的光刻胶,且桶口为圆柱形,其桶底内壁为圆锥形,引流管喷嘴固定于桶底圆锥形结构的顶部。

本实用新型光刻胶桶的桶底为圆锥形,与现有技术光刻胶桶的桶底为平底的相比,剩余的光刻胶都聚积于圆锥形顶部,并将引流管喷嘴固定于圆锥形顶部,使得99%的光刻胶得到充分利用,从而达到降低生产成本的效果。

本实用新型的引流管可以为设有斜切面状的喷嘴,所述喷嘴与桶底圆锥形的顶部相切,能充分地吸取残留的光刻胶。

本实用新型进一步地,所述桶底圆锥性结构的顶部与其底部的高度差为1cm-3cm。在不改变光刻胶桶外观尺寸的前提下,1cm-3cm的高度差对胶桶的容积影响不大,同时还可以提高光刻胶利用率。

本实用新型优选地,所述桶底圆锥形结构的顶部与其底部的高度差为1cm。现有的光刻胶桶的容积为3.78L,在不改变胶桶外观尺寸的前提下,桶底圆锥性结构的顶部与底部高度差为1cm,对容积没有影响,同时使得光刻胶残余量降到最低,大大地提高了光刻胶利用率,降低了生产成本。

本实用新型的有益效果是:圆锥形结构的桶底降低了胶桶内光刻胶残余量,并且引流管喷嘴固定在圆锥形顶部,从而实现光刻胶利用率最大化,也降低了生产成本,提升企业竞争能力。

附图说明

图1是现有光刻胶桶的结构示意图;

图2是图1中A处的放大图;

图3是本实用新型的结构示意图;

图4是图3中B处的放大图;

图中:1、光刻胶,2、胶桶,3、引流管,4、引流管喷嘴。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1和图2所示,现有的光刻胶桶的桶底内壁为平底形状,当光刻胶1在胶桶2中的剩余量不多时,会使得残余光刻胶1无法通过引流管3实现上下垂直流动,即使引流管喷嘴4很贴近胶桶2的桶底,还是会剩余大量的光刻胶1。由于光刻胶1价格偏高,为降低成本,必须减少光刻胶1残余量。

如图3和图4所示,本实用新型的光刻胶桶包括桶口、桶壁和桶底,构成盛装光刻胶的腔体,桶口处设置引流管,引流管吸取腔体内的光刻胶,且桶口为圆柱形,该桶底内壁为圆锥形,一方面,该圆锥形结构使得光刻胶1的剩余量比现有的少得很多,另一方面,残余光刻胶1都聚集于圆锥形顶部,再将引流管喷嘴4固定于桶底圆锥形结构的顶部,实现该残余光刻胶1的上下垂直流动,使得99%的光刻胶1得到充分利用,提升了光刻胶1利用率,也降低了生产成本,提高企业竞争力。

如图5所示,本实用新型的光刻胶桶内的引流管设有斜切面状的喷嘴4,所述喷嘴4与桶底圆锥形的顶部相切,可以充分地吸取残留的光刻胶。

本实用新型的光刻胶桶可以在其桶底圆锥性结构的顶部与其底部的高度差为1cm-3cm。在不改变光刻胶桶外观尺寸的前提下,1cm-3cm的高度差对胶桶2的容积影响不大,同时还可以提高光刻胶利用率。

本实用新型优选地技术方案,桶底圆锥形结构的顶部与其底部的高度差为1cm。现有的光刻胶桶的容积为3.78L,在不改变胶桶2外观尺寸的前提下,桶底圆锥性结构的顶部与底部高度差为1cm,对容积没有影响,同时使得光刻胶1残余量降到最低,大大地提高了光刻胶1利用率,降低了生产成本。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于徐州同鑫光电科技有限公司,未经徐州同鑫光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420797238.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top