[实用新型]一种水处理系统及其偏硅酸添加装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及水处理的技术领域，特别是涉及一种水处理系统及其偏硅酸添加装置。

背景技术

随着工业的发展，水污染问题也越来越严重，如何得到干净、健康的饮用水已成为了亟待解决问题。

而现有技术的净水方法一般只是对水进行了简单的过滤和消毒，而无法满足人们对饮用水中有益元素的要求，尤其是偏硅酸，偏硅酸易被人体吸收，能有效地维持人体的电解质平衡和生理机能，具有恢复血管弹性、增加皮肤弹性、促进骨骼发育等作用。因此，水中含有少量偏硅酸对人体十分有益。需要一种在水处理过程中结构简单的能够向饮用水中添加偏硅酸的装置。

实用新型内容

本实用新型提供一种水处理过程中使用的偏硅酸添加装置，以解决现有技术中无法向水中添加偏硅酸或者添加偏硅酸的装置结构复杂的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种水处理过程中使用的偏硅酸添加装置，所述偏硅酸添加装置包括加热器和偏硅酸添加器，偏硅酸添加器通过导管与净水管道连接，以向流经所述净水管道的水中添加偏硅酸。

根据本实用新型一优选实施例，所述偏硅酸添加器呈圆盒状。

根据本实用新型一优选实施例，所述加热器为电加热器或者电磁加热器，所述加热器设于所述偏硅酸添加器底部对所述偏硅酸添加器进行加热，使所述偏硅酸添加器内的偏硅酸分解，进而通过所述导管进入到净水管道中，达到向水中添加偏硅酸的目的。

根据本实用新型一优选实施例，所述加热器与所述偏硅酸添加器可拆卸连接，以便更换所述偏硅酸添加器或者向所述偏硅酸添加器内添加偏硅酸。

根据本实用新型一优选实施例，所述偏硅酸添加装置包括一个加热器和多个偏硅酸添加器。

根据本实用新型一优选实施例，所述偏硅酸添加装置还包括与所述偏硅酸添加器连接的控制箱，所述控制箱内设有电路和处理器，用于控制所述加热器的加热状态及加热温度。

根据本实用新型一优选实施例，所述加热器还设有温度传感器，所述温度传感器用于监测所述加热器的加热温度。

根据本实用新型一优选实施例，所述偏硅酸添加器采用金属材质制成。

为解决上述技术问题，本实用新型实施例还提供一种水处理系统，所述水处理系统包括上述的偏硅酸添加装置。

本实用新型实施例提供的偏硅酸添加装置，通过加热器对偏硅酸添加器进行加热，使偏硅酸添加器内的偏硅酸分解，进而通过导管进入到净水管道中，达到向水中添加偏硅酸的目的，该偏硅酸添加装置结构简单，轻松向水中添加偏硅酸，得到更加健康的饮用水。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型水处理系统一优选实施例的结构原理示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施例仅用于说明本实用新型，但不对本实用新型的范围进行限定。同样的，以下实施例仅为本实用新型的部分实施例而非全部实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，图1是本实用新型水处理系统一优选实施例的结构原理示意图。如图1所示，本实用新型实施例的水处理系统包括进水口I、涡流沉淀装置200、悬浮过滤装置300、除氯装置400、微量元素添加装置500、酸碱度调节装置600、除菌装置700、偏硅酸添加装置800、水分子纳米化处理器900、排污通道S以及出水口O。

具体而言，该涡流沉淀装置200包括筒状壳体(图中未标示)以及设置在壳体内底部的涡流发生器，该涡流发生器包括驱动单元以及旋转叶片，其中，该驱动单元可以为直流电机或者伺服电机，旋转叶片可以为风轮叶片，具体为电机带动旋转的风轮叶片，在筒状壳体底部产生漩涡，水中较重的固体颗粒状杂质在漩涡的作用下呈螺旋状向中心处同时向底部聚集，杂质聚集到底部后流入位于水处理系统底部的排污管道S内，进而从排污口D排出。而经过漩涡沉淀装置200过滤后的水则会通过连接水管203流入到悬浮过滤装置300内。

另外，该涡流沉淀装置200还可以包括控制单元，该控制单元用于控制涡流发生器的驱动单元的转速、转向等参数，在本领域技术人员的理解范围内，此处不再赘述。