[实用新型]一种平面靶材表面清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种平面靶材表面清洁装置，按国际专利分类表(IPC)划分属于靶材制造技术领域。

背景技术

平面靶材（如多晶硅）经过表面喷砂处理后，靶材表面附着许多脏物，现有的处理方式是用干净棉布人工清理，费时费力，效率低，而且表面脏物去除效果不好。

由此，本发明人考虑对平面靶材表面的清洁结构进行研发及改进，本案由此产生。 

实用新型内容

  针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种平面靶材表面清洁装置，其具有结构简单、操作简单方便，成本低等优点。

为达到上述目的，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种平面靶材表面清洁装置，该清洁装置为在平面靶材表面实现单向擦拭的清洁结构，且其包括带有把手的基体，缓冲层及清洁层；所述缓冲层附着于基体上，所述基体两端均设置有固定夹，而所述清洁层两端分别通过固定架固定在缓冲层上，形成对平面靶材表面清洁结构。

进一步，所述缓冲层为一泡沫垫，且该泡沫垫黏贴于基体上，用于在单向擦拭过程中的缓冲。

进一步，所述清洁层为清洁布，该清洁布的两端分别通过前述固定夹进行固定。

进一步，所述清洁层为3M百洁布。

进一步，所述基体为塑料板，该塑料板一侧具有把手，该塑料板在把手两端设置有固定夹。

进一步，所述固定夹为金属夹子，其包括固定片、夹片及带有扭簧的铰接轴，所述固定片固定在塑料板上而夹片通过铰接轴与固定片铰接，从而形成夹体结构。

与现有技术相比较，本实用新型的优点：

本实用新型将清洁层设置在缓冲层上，且缓冲层位于塑料板上，而该塑料板具有把手，清洁层两端通过塑料板上面的固定夹夹稳，握住把手，将砂架从平面靶材一端推到另一端，只能单方向的擦拭，从而达到清洁目的，有效降低劳动强度，进而提高工作效率，同时本新型所述的清洁装置具有结构简单、易操作及成本低等优点。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

实施例：请参阅图1所示, 一种平面靶材表面清洁装置，该清洁装置为在平面靶材表面实现单向擦拭的清洁结构，且其包括带有把手的基体1，缓冲层2及清洁层3。

请参阅图1所示,前述缓冲层2附着于基体1上，该缓冲层2为一泡沫垫，且该泡沫垫黏贴于基体1上，用于在单向擦拭过程中的缓冲。

请参阅图1所示,前述所述清洁层3为3M百洁布，该清洁层3的两端分别通过前述固定夹4进行固定。

请参阅图1所示,前述基体1为塑料板，该塑料板1一侧具有把手11，该塑料板1在把手两端设置有固定夹4，所述固定夹4为金属夹子，其包括固定片、夹片及带有扭簧的铰接轴，所述固定片固定在塑料板1上而夹片通过铰接轴与固定片铰接，从而形成夹体结构。

以上所记载，仅为利用本创作技术内容的实施例，任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化，皆属本创作主张的专利范围，而不限于实施例所揭示者。