[实用新型]掠角反应沉积设备有效
申请号: | 201420835415.6 | 申请日: | 2014-12-25 |
公开(公告)号: | CN204385286U | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 巩金龙;罗志斌;王拓;李澄澄 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/54 |
代理公司: | 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 | 代理人: | 王秀奎 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应 沉积 设备 | ||
1.掠角反应沉积设备,其特征在于,包括高真空腔室、第一泵、第二泵、样品操纵杆、活性气体微调阀、电子束轰击蒸发源和膜厚监测仪,其中:
所述高真空腔室与腔室门活动连接,在高真空腔室的一侧设置有高真空挡板阀,所述高真空挡板阀与第一泵的入口相连,第一泵的出口通过第一管路与第二泵相连,所述高真空腔室通过第二管路与第二泵相连,在所述高真空腔室上设置样品操纵杆、活性气体微调阀、电子束轰击蒸发源、真空表和膜厚监测仪;所述活性气体微调阀通过管路与外部储气罐相连;
所述高真空腔室为球形,样品操纵杆贯穿高真空腔室的室壁并密封,位于高真空腔室内的一端设置固定夹,所述样品操纵杆能够进行360度角的旋转,进而带动固定夹进行旋转,所述样品操纵杆沿高真空腔室径向进行直线运动,以将固定夹稳定在球形高真空腔室的中心位置;所述膜厚监测仪贯穿高真空腔室的室壁并密封,位于高真空腔室内的一端设置膜厚监测仪探头,所述膜厚监测仪沿高真空腔室径向进行直线运动,以将膜厚监测仪探头稳定在球形高真空腔室的中心位置;所述电子束轰击蒸发源设置在高真空腔室的底部,并与靶材相连,所述靶材正对球形高真空腔室的中心位置。
2.根据权利要求1所述的掠角反应沉积设备,其特征在于,所述第一泵为涡轮分子泵;所述第二泵为机械泵。
3.根据权利要求1所述的掠角反应沉积设备,其特征在于,在所述第二泵上设置第二泵出气口。
4.根据权利要求1所述的掠角反应沉积设备,其特征在于,所述腔室门与高真空腔室通过密封胶圈进行密封连接。
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