[实用新型]一种X射线聚焦光学系统有效

专利信息
申请号: 201420845744.9 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN204359942U 公开(公告)日: 2015-05-27
发明(设计)人: 刘永安;盛立志;刘舵;李林森;代锦飞;刘哲;赵宝升 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 杨亚婷
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 射线 聚焦 光学系统
【权利要求书】:

1.一种X射线聚焦光学系统,包括镜筒,安装在镜筒内的反射镜片组、支撑架,其特征在于:

所述反射镜片组为多个单层反射镜片嵌套形成的多层套筒结构,各单层反射镜片关于光轴旋转对称,单层反射镜片的内表面为反射面,内表面的形状为圆锥曲面,单层反射镜片之间的径向间距渐变且共焦点,能够以掠入射的方式对平行或近似平行入射的X射线通过单次反射进行聚焦,

相邻两层镜片的反射面之间应满足如下递推关系:

hi=L*tgθi

其中,L为聚焦系统沿光轴方向的长度;

hi为第i层和第i+1层间反射镜片的径向间距;

θi为第i层反射镜片的掠入射角;

f为聚焦光学系统焦距;

Di为第i层反射镜片的入射端直径;

所述支撑架用于支撑固定反射镜片组,使得反射镜片组中各层反射镜片能够按照相应间距和角度进行支撑固定。

2.根据权利要求1所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:

所述反射镜片包括基底和蒸镀在基底上的反射膜,所述反射膜为单层或多层,所述反射膜位于反射镜片的内表面。

3.根据权利要求2所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:所述基底的厚度为0.1~0.5mm。

4.根据权利要求2所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:所述反射面的粗糙度小于1nm。

5.根据权利要求2所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:所述反射膜为金属薄膜,材料应为对X射线吸收系数较小且原子序数较大的材料。

6.根据权利要求1至5之一所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于: 所述反射镜片的内表面为圆锥曲面。

7.根据权利要求6所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:所述镜筒用于套装多层反射镜片,形状为圆柱体或多面体。

8.根据权利要求7所述的X射线聚焦光学系统,其特征在:

每一单层反射镜片包括多个形状结构相同的小镜片;

所述支撑架包括中心轴和多个定位支撑辐板,各定位支撑辐板围绕中心轴均匀分布,每一块辐板两表面以不同设计间距刻有相应宽度和深度的槽,用于对反射镜片组中的组成单层反射镜片组合的小镜片进行定位和支撑固定。

9.根据权利要求8所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:所述中心轴的中心留有通孔,便于邻近光轴的X射线直接通过。

10.根据权利要求8或9所述的X射线聚焦光学系统,其特征在于:

还包括设置在反射镜片组两端防止镜片受力挤压变形的第一缓冲层和第二缓冲层;

还包括压紧第一缓冲层的第一压盖和压紧第二缓冲层的第二压盖。

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