[实用新型]新型工业气体均匀分布系统有效
| 申请号： | 201420852969.7 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN204369986U | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 戴欢 | 申请（专利权）人： | 戴欢 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 510000 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 新型 工业气体 均匀分布 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型工业气体均匀分布系统，其特征在于：包括气瓶和气体分布器，所述的气瓶与气体分布器连接，所述的气体分布器包括至少两块气体分布平板，在其中一块平板上刻有若干组槽，每组槽由若干级横向和纵向的槽呈阶梯状排布，横向槽将相邻的纵向槽连通，所述的至少两块气体分布平板的接触面是气密性接触面。
2.根据权利要求1所述的新型工业气体均匀分布系统，其特征在于：所述的平板上每组槽之间是互不连通的，都分别与气瓶连接。
3.根据权利要求1所述的新型工业气体均匀分布系统，其特征在于：在所述的一块平板上刻有4到11组槽。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
