[实用新型]低方阻透明导电薄膜有效

专利信息
申请号: 201420853417.8 申请日: 2014-12-24
公开(公告)号: CN204332412U 公开(公告)日: 2015-05-13
发明(设计)人: 徐厚嘉;林晓辉;平财明;张永杰 申请(专利权)人: 上海蓝沛新材料科技股份有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 余明伟
地址: 201262 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 低方阻 透明 导电 薄膜
【权利要求书】:

1.一种低方阻透明导电薄膜,其特征在于,所述低方阻导电薄膜至少包括:

透明基材;

位于所述透明基材上的具有沟槽的粘接层;

位于所述沟槽内的金属化物质;

位于所述粘接层及所述金属化物质上的高分子导电层。

2.根据权利要求1所述的低方阻透明导电薄膜,其特征在于,所述粘接层为紫外固化胶层或者丙烯酸系粘合剂层。

3.根据权利要求1所述的低方阻透明导电薄膜,其特征在于,所述金属化物质为固化后的银浆或者铜金属。

4.根据权利要求1所述的低方阻透明导电薄膜,其特征在于,所述高分子导电层为聚乙撑二氧噻吩层。

5.根据权利要求1所述的低方阻透明导电薄膜,其特征在于,所述粘接层的厚度为5μm~20μm,所述沟槽的深度为2μm~10μm,所述高分子导电层的厚度为2μm~10μm。

6.根据权利要求1所述的低方阻透明导电薄膜,其特征在于,所述透明基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯基材。

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