[发明专利]磁共振成像装置有效

专利信息
申请号: 201480001863.9 申请日: 2014-06-10
公开(公告)号: CN104486993B 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 韦恩·R·丹内尔斯;重田高志 申请(专利权)人: 东芝医疗系统株式会社
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 舒艳君,李洋
地址: 日本枥木*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁共振 成像 装置
【说明书】:

技术领域

本发明的实施方式涉及磁共振成像装置。

背景技术

磁共振成像是以其拉莫尔(Larmor)频率的RF(Radio Frequency:射频)脉冲磁性地激发被载置于静磁场中的被检体的原子核自旋,根据伴随激发而产生的磁共振信号的数据生成图像的摄像法。在磁共振成像中,提出了各种用于高速进行摄像的技术和用于提高画质的技术。

专利文献1:美国专利第6559642号说明书

专利文献2:美国专利第6836116号说明书

专利文献3:美国专利第6949928号说明书

专利文献4:美国专利第6486671号说明书

非专利文献1:K.P.Pruessmann等著、「SENSE:高速MRIのための感度エンコーディング法(Sensitivity Encoding for Fast MRI)」、磁気共鳴医学会(Magnetic Resonance in Medicine)、42卷、952~962页、1999年

非专利文献2:D.Xu等著、「狭い撮像視野におけるエコープラナーイメージングのためのロバスト2D位相補正(Robust 2D Phase Correction for Echo-Planar Imaging Under a Tight Field of View)」、磁気共鳴医学会(Magnetic Resonance in Medicine)、64卷(6版)、1800~1813页、2010年12月

发明内容

本发明要解决的问题在于,提供一种能够提高输出图像的画质的磁共振成像装置。

实施方式所涉及的磁共振成像装置具备预扫描部、正式扫描部、校正部、以及生成部。预扫描部执行收集线圈的灵敏度分布的预扫描。正式扫描部执行收集磁共振图像的信号的正式扫描。校正部根据因上述正式扫描的执行而在磁共振图像中包含的变形,来校正上述灵敏度分布。生成部使用上述校正后的灵敏度分布,生成输出磁共振图像。根据上述构成的磁共振成像装置,能够提高输出图像的画质。

附图说明

图1是本实施方式所涉及的、适用于降低因发生了空间位置偏移的信号而造成的展开伪影的、MRI系统的高度的概略框图。

图2A是表示不使用并行成像而在以往的MRI系统中使用回波平面成像(Echo Planar Imaging:EPI)生成的、表示空间变形的MRI诊断图像的例子的图。

图2B是表示在以往的并行成像MRI系统中消除了EPI图像的变形时观察到的展开伪影的例子的图。

图3是本实施方式所涉及的、生成使因发生了空间位置偏移的信号而造成的展开伪影降低了的图像的方法的流程图。

图4是本实施方式所涉及的、使用改良后的灵敏度图以及改良后的蒙片(mask)对主扫描数据进行处理的方法的流程图。

图5A是表示本实施方式所涉及的、示出灵敏度图的延长的概略图的图。

图5B是表示本实施方式所涉及的、示出灵敏度图的延长的概略图的图。

图5C是表示本实施方式所涉及的、示出灵敏度图的延长的概略图的图。

图6A是表示延长灵敏度图的现有技术的例子的图。

图6B是表示因通过以往的方法延长灵敏度图而可能产生的误差的例子的图。

图7是表示本实施方式所涉及的、延长灵敏度图的技术的图。

图8是本实施方式所涉及的、使用改良后的灵敏度图对主扫描数据进行处理的方法的流程图。

图9是本实施方式所涉及的、使用改良后的蒙片对主扫描数据进行处理的方法的流程图。

图10是在EPI中组合2D相位校正,使用本实施方式涉及的改良后的灵敏度图以及改良后的蒙片的方法的流程图。

具体实施方式

以下,参照附图,说明实施方式所涉及的磁共振成像装置(以下,适当地称为MRI(Magnetic Resonance Imaging)系统)。

(实施方式)

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝医疗系统株式会社,未经东芝医疗系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480001863.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top