[发明专利]透明化合物半导体及其P型掺杂方法在审

专利信息
申请号: 201480002425.4 申请日: 2014-01-14
公开(公告)号: CN104641422A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 车国麟;任志淳 申请(专利权)人: 瑞福龙株式会社
主分类号: H01B1/08 分类号: H01B1/08;H01B13/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;洪欣
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 透明 化合物 半导体 及其 掺杂 方法
【权利要求书】:

1.P型掺杂透明化合物半导体,其包含掺杂有M(M是Ru、Ga、Cu、Zn、K、Na以及Rb中的一种)的(Ba,Sr)SnO3和SnO2之一,

其中(Ba,Sr)SnO3是指Ba1-ySrySnO3(0≤y≤1.0)。

2.如权利要求1所述的P型掺杂透明化合物半导体,其具有组成(Ba,Sr)Sn1-xMxO3(0<x≤0.7),

其中M是Ru、Ga、Cu和Zn中的一种,并且(Ba,Sr)Sn1-xMxO3是指Ba1-ySrySn1-xMxO3(0≤y≤1.0)。

3.如权利要求1所述的P型掺杂透明化合物半导体,其具有组成(Ba,Sr)1-xMxSnO3(0<x≤0.7),

其中M是K、Na和Rb中的一种,并且(Ba,Sr)1-xMxSnO3是指(Ba1-ySry)1-xMxSnO3(0≤y≤1.0)。

4.如权利要求1所述的P型掺杂透明化合物半导体,其具有组成Sn1-xMxO2(0<x≤0.7),

其中M是Ru。

5.P型掺杂透明化合物半导体,其具有组成(Ba,Sr)Sn1-xRuxO3(0<x≤0.7),

其中(Ba,Sr)是指Ba1-ySry(0≤y≤1.0)。

6.如权利要求5所述的P型掺杂透明化合物半导体,其中通过用Ru掺杂(Ba,Sr)SnO3来形成(Ba,Sr)Sn1-xRuxO3

7.P型掺杂透明化合物半导体,其具有组成(Ba,Sr)1-xKxSnO3(0<x≤0.7),

其中(Ba,Sr)是指Ba1-ySry(0≤y≤1.0)。

8.如权利要求7所述的P型掺杂透明化合物半导体,其中通过用K掺杂(Ba,Sr)SnO3来形成(Ba,Sr)1-xKxSnO3

9.P型掺杂透明化合物半导体的制备方法,通过用M(M是Ru、Ga、Cu、Zn、K、Na和Rb中的一种)取代(Ba,Sr)SnO3和SnO2之一中包含的(Ba,Sr)和Sn之一来进行P型掺杂。

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