[发明专利]图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件在审
| 申请号： | 201480003097.X | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN104797982A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 吉留正洋;山中司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 电子元件 制造 | ||
1.一种图案形成方法，其包含：
-在基板上涂布溶剂(S)的步骤；
-在涂布有溶剂(S)的所述基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；
-对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；及
-利用包含有机溶剂的显影液对进行了曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影而形成负型图案的步骤。
2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由于酸的作用而使对包含有机溶剂的显影液的溶解度减小的树脂、由于照射光化射线或放射线而产生酸的化合物及溶剂。
3.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，溶剂(S)的20℃的蒸汽压为0.7kPa以下。
4.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，在残存有基板上所涂布的所述溶剂(S)的状态下形成所述感光化射线性或感放射线性膜。
5.根据权利要求1所述的图案形成方法，其是通过将溶剂(S)喷出至基板上而进行所述溶剂(S)的涂布，通过将所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物喷出至基板上而进行所述组合物的涂布的图案形成方法，并且所述图案形成方法包含在自溶剂(S)的喷出结束后直至所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的喷出开始之间的规定时间使基板旋转，从而形成溶剂(S)的液膜的步骤，其旋转速度为3000rpm以下，且自溶剂(S)的喷出结束后直至所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的喷出开始的时间为7.0秒以下。
6.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，经由液浸液进行所述曝光。
7.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，以193nm以下的波长进行所述曝光。
8.一种电子元件的制造方法，其包含根据权利要求1所述的图案形成方法。
9.一种电子元件，其是利用根据权利要求8所述的电子元件的制造方法而制造。
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