[发明专利]形成二次电池用粘合层的方法在审
申请号: | 201480003528.2 | 申请日: | 2014-11-04 |
公开(公告)号: | CN104871346A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | 庾亨均;陈善美;李柱成 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | H01M4/04 | 分类号: | H01M4/04;H01M2/14;H01M4/62 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陈海涛;穆德骏 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 二次 电池 粘合 方法 | ||
1.一种形成粘合层的方法,其包括:
制备具有垂直敞开的开口的掩模;
通过所述掩模腐蚀感光膜以在所述感光膜中形成与所述掩模的开口相对应的沟槽;
将聚二甲基硅氧烷倒在具有沟槽的感光膜上,使聚二甲基硅氧烷固化,以及将固化的聚二甲基硅氧烷与所述感光膜分开,从而制造具有凹-凸部分的聚二甲基硅氧烷模具;
在所述具有凹-凸部分的聚二甲基硅氧烷模具上涂布聚合物粘合剂浆料;以及
将涂布于聚二甲基硅氧烷模具上的聚合物粘合剂浆料转移到二次电池的隔膜或电极的表面上,从而在所述隔膜或电极的表面上形成具有垂直敞开的空穴部的粘合层。
2.根据权利要求1所述的形成粘合层的方法,其中所述掩模的制备包括:通过具有规则排列的开口制备具有规则图案的掩模。
3.根据权利要求2所述的形成粘合层的方法,其中所述凹-凸部分包含突出物和凹部,所述突出物突出地形成于与所述感光膜中形成的沟槽相对应的位置处,所述凹部与所述突出物相比是相对向内形成的。
4.根据权利要求3所述的形成粘合层的方法,其中所述聚合物粘合剂浆料的涂布包括:在所述突出物或所述凹部上涂布所述聚合物粘合剂浆料。
5.根据权利要求4所述的形成粘合层的方法,其中所述聚合物粘合剂浆料的涂布包括:在所述凹部上涂布所述聚合物粘合剂浆料,以及
所述粘合层的形成包括:形成具有空穴部的粘合层,所述空穴部具有与由所述开口形成的规则图案相同的图案。
6.根据权利要求4所述的形成粘合层的方法,其中所述聚合物粘合剂浆料的涂布包括:在所述突出物上涂布所述聚合物粘合剂浆料,以及
所述粘合层的形成包括;形成具有空穴部的粘合层,所述空穴部具有与由所述开口形成的规则图案相反的图案。
7.根据权利要求2所述的形成粘合层的方法,其中所述掩模的制备包括:制备具有矩形开口的掩模。
8.根据权利要求7所述的形成粘合层的方法,其中所述开口的宽度与长度的标准是0.5μm×0.5μm到2μm×2μm。
9.根据权利要求2所述的形成粘合层的方法,其中所述掩模的制备包括:使用通过CAD预先设计的规则图案来制备掩模。
10.根据权利要求1所述的形成粘合层的方法,其中所述掩模是铬掩模。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的形成粘合层的方法,其还包括:
在涂布所述聚合物粘合剂浆料之前,进行聚二甲基硅氧烷模具的O2等离子体表面处理或电晕表面处理。
12.根据权利要求1~10中任一项所述的形成粘合层的方法,其中在感光膜中形成沟槽包括:对所述感光膜进行光腐蚀以形成沟槽。
13.根据权利要求1~10中任一项所述的形成粘合层的方法,其中所述粘合层的形成包括:将涂布于聚二甲基硅氧烷模具上的聚合物粘合剂浆料转移到形成于二次电池的隔膜表面上的含有无机粒子的多孔涂层上,以在所述多孔涂层上形成具有垂直敞开的空穴部的粘合层。
14.一种粘合层复合物,其包含:
具有空穴部的粘合层,所述粘合层形成于所述粘合层复合物的表面上,所述空穴部是垂直敞开的且具有规则图案。
15.根据权利要求14所述的粘合层复合物,其中所述粘合层复合物包含二次电池的电极和所述粘合层,且所述粘合层形成于所述二次电池的电极表面上。
16.根据权利要求14所述的粘合层复合物,其中所述粘合层复合物包含二次电池的隔膜和所述粘合层,且所述粘合层形成于所述二次电池的隔膜表面上。
17.根据权利要求16所述的粘合层复合物,其中所述粘合层形成于含有无机粒子的多孔涂层上,所述多孔涂层形成于所述二次电池的隔膜表面上。
18.根据权利要求14所述的粘合层复合物,其中所述粘合层包含所述空穴部和用粘合剂聚合物制成的粘合剂区域,且所述空穴部或所述粘合剂区域具有规则图案。
19.根据权利要求18所述的粘合层复合物,其中当从顶部观察时,所述粘合剂区域或所述空穴部具有规则的矩形重复性图案。
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