[发明专利]用于分离气体和液体的装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于分离气体和液体的装置，更具体地，涉及一种能够去除产生在固定锥体和旋转锥体中的料垢(scale)的用于分离气体和液体的装置。

背景技术

通常，通过化学反应制备产物需要反应装置。批式(batch-type)反应器通常被用作这样的反应装置，向批式反应器中加入原材料，然后在一个反应器中搅拌。然而，当使用批式反应器时，由于在需要快速瞬态传质速率(rapid mass transfer rate)的反应中没有发生充分的反应，因此可能会产生大量的非原材料产物。另外，当使用催化剂导致在使用大型的批式反应器时成本增加时，尤其需要分离催化剂的工艺。

韩国专利NO.10-961,765公开了一种旋转盘反应器。然而，旋转盘反应器存在一个问题：由于盘被设置在水平方向上，原材料反应物将在旋转盘中保留较短的保留时间。因此，提出了一种能够通过安装具有一定斜坡的盘(即锥体)来提高原材料的保留时间的旋转锥柱体(SCC)。

在旋转锥柱体的情况中，旋转锥体以及固体锥体可以交替地安装在一个柱体内部。然而，旋转锥柱体没有能够去除在旋转锥体或固定锥体中产生的料垢的构件。当这样的料垢长成块时，该块可能被分离以致干扰装置的运转。

发明内容

技术问题

本发明旨在提供一种能够有效地去除在旋转锥体或固定锥体中产生的料垢的用于分离气体和液体的装置。

技术方案

为了解决现有技术的问题，本发明一方面提供一种用于分离气体和液体的装置，包括：壳体；旋转轴，所述旋转轴设置在所述壳体的内部；驱动单元，所述驱动单元被配置为使所述旋转轴旋转；旋转锥体，所述旋转锥体被安装在所述旋转轴上以围绕所述旋转轴旋转，并且所述旋转锥体具有从其上端至其下端减小的直径；固定锥体，所述固定锥体被固定在所述壳体中以与所述旋转锥体间隔开，并且所述固定锥体具有从其上端至其下端减小的直径；以及刮器，所述刮器被配置为基于所述旋转轴的旋转来去除在所述固定锥体和所述旋转锥体中的至少一个中产生的料垢。

此时，所述刮器被固定在所述旋转轴或所述旋转锥体中，并且被配置为在与所述旋转轴或所述旋转锥体一起旋转时去除在所述固定锥体中产生的料垢。

另外，所述刮器可以从所述旋转轴或所述旋转锥体朝向所述固定锥体延伸。

另外，所述刮器可以与所述固定锥体间隔开预定的距离。

另外，所述刮器可以延伸为面对所述固定锥体的外周表面。

进一步地，所述刮器可以延伸为面对所述固定锥体的内周表面。

另外，所述刮器可以平行于所述旋转轴延伸。

另外，所述刮器可以相对于所述旋转轴成预定的角度延伸。

同时，所述固定刮器可以固定在所述壳体或所述固定锥体中，并且被配置为在所述旋转锥体旋转时去除在所述旋转锥体中产生的料垢。

另外，所述刮器可以从所述壳体或所述固定锥体朝向所述旋转锥体延伸。

另外，所述刮器可以与所述旋转锥体间隔开预定的距离。

另外，所述刮器可以延伸为面对所述旋转锥体的外周表面。

进一步地，所述刮器可以延伸为面对所述旋转锥体的内周表面。

另外，所述刮器可以平行于所述旋转轴延伸。

另外，所述刮器可以相对于所述旋转轴成预定的角度延伸。

本发明的另一方面提供一种用于分离气体和液体的装置，包括：壳体；旋转轴，所述旋转轴设置在所述壳体的内部；驱动单元，所述驱动单元被配置为使所述旋转轴旋转；旋转锥体，所述旋转锥体被安装在所述旋转轴上以围绕所述旋转轴旋转，并且所述旋转锥体具有从其上端至其下端减小的直径；固定锥体，所述固定锥体被固定在所述壳体中以与所述旋转锥体间隔开，并且所述固定锥体具有从其上端至其下端减小的直径；第一刮器，所述第一刮器被配置为基于所述旋转轴的旋转来去除在所述固定锥体中产生的料垢；以及第二刮器，所述第二刮器被配置为基于所述旋转轴的旋转来去除在所述旋转锥体中产生的料垢。

此时，第一刮器可以被固定在所述旋转轴或所述旋转锥体中，并且被配置为去除在与所述旋转轴或所述旋转锥体一起旋转时去除在所述固定锥体中产生的料垢。

另外，所述第一刮器可以从所述旋转轴或所述旋转锥体朝向所述固定锥体延伸，并且所述第一刮器可以根据在所述固定锥体中产生的料垢的厚度与所述固定锥体间隔开预定的距离。

另外，所述第二刮器可以被固定在所述壳体或所述固定锥体中，并且被配置为在所述旋转轴旋转时去除在所述旋转锥体中产生的料垢。