[发明专利]用于断层融合的定向X射线场

权利要求书

1.一种放射摄影成像系统，其能够断层融合x射线成像和通用投影放射摄影x射线成像二者，所述放射摄影成像系统包括：

环形的单个x射线源组件，其包括以环形构造的多个分布式x射线源，所述分布式x射线源中的每一个能够操作在用于所述断层融合x射线成像的第一功率电平；

中心支撑部件，其被配置为将中心x射线源保持在所述环形x 射线源组件的中心轴附近，所述中心x射线源能够操作在大于所述第一功率电平的第二功率电平以输出足够用于所述通用投影放射摄影x射线成像的x射线波束；

准直器，其包括多个孔隙，所述孔隙的每个被配置以为所述多个分布式 x 射线源中的一个提供准直；

x 射线生成器；和

控制单元，其控制所述分布式x射线源和所述中心x射线源，

其中来自用于断层融合x射线成像的所有所述分布式x射线源的所述x射线被聚焦以在x 射线检测器处的规定距离上重叠，并且其中所述准直器可调节，使得来自用于断层融合x射线成像的每个所述分布式x射线源的单独辐射场被重新聚焦以使不同的源适应检测器距离和辐射场尺寸。

2.根据权利要求 1 所述的放射摄影成像系统，其中将用于通用放射摄影的所述中心x射线源附接到准直器，所述准直器被配置来针对不同的辐射场尺寸在至少两个维度中可调节。

3.根据权利要求 1 所述的放射摄影成像系统，其中将用于断层融合x射线成像的所述分布式x射线源容置在相同的真空室中，或其中将用于断层融合x射线成像的所述分布式x射线源容置在相同的辐射屏蔽中。

4.根据权利要求 1 所述的放射摄影成像系统，其包括：

可移动的传输框架；和

可调节的支撑结构，其耦接到所述可移动的传偷框架；

其中所述环形的单个x射线源组件被安装到所述可调节的支撑结构，所述可调节的支撑结构被配置为使x射线辐射从多个分布式x射线源指向对象。

5.根据权利要求 1 所述的放射摄影成像系统，其中用于断层融合x射线成像的所述分布式x射线源中的每一个被分成多个组，所述多个组被配置为被独立地准直和定位，其中所述多个组中的每一个被配置为在第一位置与第二位置之间往复移动。

6.一种放射摄影成像系统，其能够断层融合x射线成像和投影x 射线成像二者，所述放射摄影成像系统包括

用于投影x射线成像的第一x射线源；

第一准直器，其用来准直所述第一x射线源，所述第一准直器被配置为针对至少两个维度可调节；

用于断层融合x射线成像的多个分布式x射线源；

环形结构，其被配置为支撑环形构造的所述多个分布式x射线源；和

第二准直器，其包括多个孔隙，所述孔隙的每个被配置为向所述多个分布式x射线源中的一个提供固定准直，

其中来自用于断层融合x射线成像的所有所述分布式x射线源的所述x射线被聚焦以在x 射线检测器处的规定距离上重叠，并且其中所述准直器可调节，使得来自用于断层融合x射线成像的每个所述分布式x射线源的单独辐射场被重新聚焦以使不同的源适应检测器距离和辐射场尺寸。

7.根据权利要求 6 所述的放射摄影成像系统，其中所述第一x射线源包括单个辐射屏蔽或单个真空室。

8.根据权利要求 6 所述的放射摄影成像系统，其中所述第一x射线源包括用于x射线管的第一生成器和用于所述多个分布式x射线源的第二生成器。